[发明专利]一种薄介质的无接触式检测方法及装置

权利要求书

1.一种薄介质的无接触式检测方法，其特征在于，包括：

S1：获取由光源的发射光线经薄介质反射回的目标光线到达线列光电探测器的时间；

S2：获取所述光源经参考平面反射回的参考光线到达所述线列光电探测器的时间；

S3:根据第一公式结合所述参考光线到达所述线列光电探测器的时间计算出所述参考光线的第一光程，并根据第二公式结合所述目标光线到达所述线列光电探测器的时间计算出所述目标光线的第二光程；

结合所述第一光程、所述第二光程和所述线列光电探测器的光敏单元的数目按照第三公式计算出干涉条纹亮暗变化次数；

将所述干涉条纹亮暗变化次数根据第四公式计算出干涉条纹亮暗变化平均值；

S4：获取所述干涉条纹亮暗变化平均值与标准干涉条纹亮暗变化平均值的差值；

对所述差值与预置阈值进行比对，若比对结果大于所述预置阈值，则所述薄介质表面存在异物，若比对结果不大于所述预置阈值且不小于零，则所述薄介质表面不存在异物；

所述第一公式为所述第一光程Δ₁＝ct₁；

所述第二公式为所述第二光程Δ₂＝ct₂；

其中，t₁为从光源开启到参考光线到达线列光电探测器的时间，t₂为从光源开启到目标光线到达线列光电探测器的时间；

所述第三公式为所述干涉条纹亮暗变化次数其中，M为所述光源的光信号行扫描总行数，N为所述线列光电探测器的光敏单元的数目，λ₀为所述光源的波长；

所述第四公式为所述干涉条纹亮暗变化平均值

2.根据权利要求1所述的薄介质的无接触式检测方法，其特征在于，所述步骤S1之前还包括：

启动所述光源，使得所述光源的发射的所述光线在分光部件的作用下将所述光线分为反射至所述薄介质处的第二光线，以及透射至所述参考平面处的第一光线；

所述第二光线经所述薄介质再反射为目标光线；

所述第一光线经所述参考平面反射回分光部件进行再反射为参考光线。

3.根据权利要求1所述的薄介质的无接触式检测方法，其特征在于，所述预置阈值为根据最旧的所述薄介质和标准薄介质按照最大差值方式确定。