[发明专利]光阻脱除剂和电子元件及其制造方法

权利要求书

1.一种光阻脱除剂，包括：

醇醚类化合物，由式1表示；

极性溶剂，选自式2表示的化合物、式3表示的化合物及其混合物；以及

至少一种仲醇胺或至少一种叔醇胺，由式4表示；

其中

n为1～3的整数，

R₁为C₁-C₄烷基，

R₂各自独立为氢或甲基，

X₁和X₂分别为C₁-C₄亚烷基、C₂-C₄亚烯基、>R_x-COOH或>R_yOH，其中R_x为C₁-C₃连结基，R_y为C₁-C₄连结基，

R₃为H、C₁-C₄烷基或-R_zOH，其中R_z为C₁-C₄连结基，

R₄和R₅分别为C₁-C₄亚烷基，且Y₁和Y₂分别为H或-OH，且R₃、Y₁和Y₂中的至少一者含有-OH。

2.如权利要求1所述的光阻脱除剂，其中水的含量小于10重量％。

3.如权利要求1所述的光阻脱除剂，其包括该叔醇胺、该醇醚类化合物和该极性溶剂，且该光阻脱除剂中水的含量小于10重量％。

4.如权利要求1所述的光阻脱除剂，其中以该光阻脱除剂的总量计，该仲醇胺或该叔醇胺占1重量％～20重量％，该醇醚类化合物占25重量％～50重量％，该极性溶剂占30重量％～70重量％。

5.如权利要求1至4中任一项所述的光阻脱除剂，其中该极性溶剂为碳酸丙烯酯、丙二醇或其混合物。

6.如权利要求1所述的光阻脱除剂，其中该仲醇胺为N-甲基乙醇胺、N-乙基乙醇胺或其混合物。

7.如权利要求1所述的光阻脱除剂，其中该叔醇胺为三乙醇胺、二甲基乙醇胺或1-(2-羟乙基)哌嗪或其混合物。

8.如权利要求1所述的光阻脱除剂，其中该醇醚类化合物为二乙二醇丁醚或二丙二醇甲醚。

9.一种电子元件的制造方法，包括使用权利要求1的光阻脱除剂移除形成在基板上的光阻，其中该基板上形成有包括铝、铜、钼或含铟氧化物的结构。

10.一种电子元件，由权利要求9所述的电子元件的制造方法制成。