[发明专利]一种镀金电路板的制作方法有效
申请号: | 201410646789.8 | 申请日: | 2014-11-14 |
公开(公告)号: | CN104378921B | 公开(公告)日: | 2018-01-02 |
发明(设计)人: | 曾巨湘 | 申请(专利权)人: | 深圳市翔宇电路有限公司 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00;H05K3/24 |
代理公司: | 深圳市兰锋知识产权代理事务所(普通合伙)44419 | 代理人: | 曹明兰 |
地址: | 518000 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 镀金 电路板 制作方法 | ||
技术领域
本发明属于电路板的生产领域,具体涉及一种镀金电路板的制作方法。
背景技术
传统的镀金电路板制作流程如下:
一、开料:根据工程资料MI的要求,在符合要求的大张板材上,裁切成小块生产板件,符合客户要求的小块板料,流程:大板料→按MI要求切板→锔板→啤圆角/磨边→出板。
二、钻孔:根据工程资料(客户资料),在所开符合要求尺寸的板料上,相应的位置钻出所求的孔径,流程:叠板销钉→上板→钻孔→下板→检查/修理。
三、沉铜:沉铜是利用化学方法在绝缘孔壁上沉积上一层薄铜,流程:粗磨→挂板→沉铜自动线→下板→浸1%稀H2SO4→加厚铜。
四、图形转移:图形转移是生产菲林上的图像转移到板上,
流程:(蓝油流程):磨板→印第一面→烘干→印第二面→烘干→爆光→冲影→检查;
(干膜流程):麻板→压膜→静置→对位→曝光→静置→冲影→检查。
五、图形电镀:图形电镀是在线路图形裸露的铜皮上或孔壁上电镀一层达到要求厚度的铜层与要求厚度的金镍或锡层,流程:上板→除油→水洗二次→微蚀→水洗→酸洗→镀铜→水洗→浸酸→镀锡→水洗→下板。
六、退膜:用NaOH溶液退去抗电镀覆盖膜层使非线路铜层裸露出来,流程:水膜:插架→浸碱→冲洗→擦洗→过机;干膜:放板→过机。
七、蚀刻:蚀刻是利用化学反应法将非线路部位的铜层腐蚀去。
八、绿油:绿油是将绿油菲林的图形转移到板上,起到保护线路和阻止焊接零件时线路上锡的作用,流程:磨板→印感光绿油→锔板→曝光→冲影;磨板→印第一面→烘板→印第二面→烘板。
九、字符:字符是提供的一种便于辩认的标记,流程:绿油终锔后→冷却静置→调网→印字符→后锔。
十、镀金手指:在插头手指上镀上一层要求厚度的镍/金层,使之更具有硬度的耐磨性,流程:上板→除油→水洗两次→微蚀→水洗两次→酸洗→镀铜→水洗→镀镍→水洗→镀金。
十一、成型:通过模具冲压或数控锣机锣出客户所需要的形状成型的方法有机锣,啤板,手锣,手切,说明:数据锣机板与啤板的精确度较高,手锣其次,手切板最低具只能做一些简单的外形。
十二、测试:通过电子100%测试,检测目视不易发现到的开路,短路等影响功能性之缺陷,流程:上模→放板→测试→合格→FQC目检→不合格→修理→返测试→OK→REJ→报废。
十三、终检:通过100%目检板件外观缺陷,并对轻微缺陷进行修理,避免有问题及缺陷板件流出,具体工作流程:来料→查看资料→目检→合格→FQA抽查→合格→包装→不合格→处理→合格。
传统流程均通过一次铣的方法将PTH孔或槽铣破,再通过外层蚀刻将多余的披锋毛刺蚀刻掉,以达到避免毛刺的目的,但是,在镀金线路板的“金属包边”或“铣破PTH孔”的制作中,常会发现蚀刻过程无法将所有的披锋毛刺蚀刻掉的问题。
申请号为201310577461.0,申请日为2013-11-18的发明专利公开了一种镀金线路板制作方法,属于印制线路板技术领域。该制作方法包括开料、内层图形制作、压合、钻孔、铣槽、沉铜电镀、镀保护层、一次铣、蚀刻、退保护层、外层图形制作、图形电镀铜镍金、外层图形蚀刻、防焊、表面处理工序。采用该制作方法能够解决镀金板毛刺的问题,不需要人工修整,且流程简单,易于控制,既大大地节约了人工成本,又提高了生产效率。
上述专利虽然解决了现有技术中镀金板毛刺的问题,但是,上述专利采用了先设置一层镀锡保护膜,然后再去除镀锡膜,经过这两个处理后的锡必须经过处理才能够再次利用,这样,就大大的浪费了资源,不能够有效做到节能环保。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种镀金电路板的制作方法,解决了现有技术中解决镀金板毛刺过程中造成能源浪费的问题。
本发明为解决上述技术问题采用以下技术方案:
一种镀金电路板的制作方法,依次包括开料、内层图形制作、压合、钻孔、铣槽、第一次沉铜电镀、一次铣、第二次沉铜电镀、二次铣、内层图形蚀刻、外层图形制作、图形电镀铜镍金、外层图形蚀刻、防焊、表面处理工序,其中,第一次沉铜电镀与第二次沉铜电镀工序中的铜厚度相同。
所述内层图形制作和外层图形制作均采用干膜曝光显影的方式。
所述显影时的显像点占显影总长度的50%~70%,显影时的温度为28~32℃。
所述内层图形蚀刻和外层图形蚀刻均采用酸性蚀刻液。
所述酸性蚀刻液为氯化铜溶液。
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