[发明专利]一种高分散α-Al2O3纳米片的制备方法有效

专利信息
申请号: 201410653677.5 申请日: 2014-11-18
公开(公告)号: CN104402029A 公开(公告)日: 2015-03-11
发明(设计)人: 聂龙辉 申请(专利权)人: 湖北工业大学
主分类号: C01F7/02 分类号: C01F7/02;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 常海涛
地址: 430068 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 分散 al sub 纳米 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种高分散α-Al2O3纳米片的制备方法,其特征在于包括如下步骤:

(1)按照尿素与硝酸铝或氯化铝或二者的混合物的摩尔比为1.0~6.0:1.0配制Al3+浓度为0.005~1mol/L的混合溶液,搅拌均匀后,进行微波水热反应,得到微波水热产物;

(2)将步骤(1)所得的微波水热产物依次进行冷却,离心分离,洗涤,干燥处理,得到白色的粉末;

(3)将步骤(2)获得的白色粉末经煅烧即获得高分散α-Al2O3纳米片。

2.根据权利要求1所述的高分散α-Al2O3纳米片的制备方法,其特征在于:步骤(1)中所述的微波水热反应的条件为:反应温度140~200℃,反应时间1-120min。

3.根据权利要求2所述的高分散α-Al2O3纳米片的制备方法,其特征在于:所述的微波水热反应的条件为:温度160~180℃,时间10-40min。

4.根据权利要求1所述的高分散α-Al2O3纳米片的制备方法,其特征在于:步骤(2)中所述的洗涤为先水洗至中性,后醇洗。

5.根据权利要求1所述的高分散α-Al2O3纳米片的制备方法,其特征在于:步骤(2)中所述的干燥为在40~100℃的温度下,干燥0.5~24h,干燥气氛为空气。

6.根据权利要求1所述的高分散α-Al2O3纳米片的制备方法,其特征在于:步骤(3)中所述的煅烧的条件为:煅烧温度为900~1600℃,煅烧时间为0.5-6h,煅烧气氛为空气。

7.根据权利要求6所述的高分散α-Al2O3纳米片的制备方法,其特征在于:所述的煅烧的条件为:温度1200~1400℃,时间1-3h。

8.一种高分散α-Al2O3纳米片,其特征在于:通过权利要求1-7任一项所述的方法制备得到。

9.根据权利要求8所述的高分散α-Al2O3纳米片,其特征在于:直径在100-800nm之间,厚度在10-100nm之间。

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