[发明专利]一种石墨核壳结构的制备工艺

权利要求书

1.一种石墨核壳结构的制备工艺，其特征是：铜薄膜的制备：采用DPS-Ⅲ 型超高真空对靶磁控溅射镀膜设置来制备厚度为100nm的铝薄膜，使用的基片 为单晶Si100，靶材是直径为5cm的高纯铝靶，将Si100基片分别用丙酮、酒精和 去离子水超声清洗15min后放入镀膜设备的样品台上，当真空室的背景压强低于 3×10⁴Pa后，开始在Si100上沉积铝膜，沉积过程中，Ar气流量为50sccm，溅射 压强为0.3Pa。

2.根据权利要求1所述的一种石墨核壳结构的制备工艺，其特征是：所述的 石墨核壳结构材料的制备：将对靶磁控溅射制备的铝薄膜放入射频等离子体增强 化学气相沉积设备(RF-PECVD)的反应室中，当反应室的压强低于8Pa后， 通入Ar气(流量为20sccm)，并保持反应室的气体压强为180Pa，开始升温， 30min后将铝薄膜升温到600℃并恒温10min，此时铝薄膜将转变成铝颗粒。