[发明专利]一种真空机台的真空反应腔及真空机台

说明书

技术领域

本发明涉及真空设备领域，特别是涉及一种真空机台的真空反应腔及真空机台。

背景技术

目前的液晶显示面板的阵列基板的制造过程中，主要会用到三种真空机台，如成膜部分的PVD(Physical Vapor Deposition，物理气相沉积)、CVD(Chemical Vapor Deposition,化学气相沉积)，刻蚀部分的干法刻蚀设备(Dry Etch)。

受成膜条件的影响，上述真空机台的真空反应腔通常会维持在高温及高真空状态；如生产过程中真空机台出现异常，需要工作人员观测真空反应腔内的腔体情况及腔体内的基板情况时，工作人员要对真空机台进行停机降温操作，然后打开真空反应腔的腔体才能进行观测操作。这个过程耗时较长，且观测完毕后还需要进行升温抽真空等一系列复机动作，从而影响生产效率，造成不必要的产能浪费。

故，有必要提供一种真空机台的真空反应腔及真空机台，以解决现有技术所存在的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种易于观测操作的真空机台的真空反应腔及真空机台；以解决现有的真空机台的真空反应腔及真空机台的生产效率低下且产能浪费比较严重的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明实施例提供一种真空机台的真空反应腔，其包括：

反应腔体，包括由四侧壁、一顶壁以及一底壁构成的一容纳空间；

承载基板，设置在所述反应腔体的所述底壁的中部，用于承载待处理基板；以及

观测窗，设置在所述反应腔体的所述侧壁上，用于观测所述反应腔体内的所述容纳空间；

其中所述观测窗包括用于观测操作的透明观测玻璃，以及用于扩大所述透明观测玻璃的观测视角的视角扩大部件。

在本发明所述的真空机台的真空反应腔中，所述真空反应腔包括第一观测窗和第二观测窗，所述第一观测窗和所述第二观测窗分别设置在所述反应腔体的相对的两个侧壁上。

在本发明所述的真空机台的真空反应腔中，所述真空反应腔包括第一观测窗、第二观测窗以及第三观测窗，所述第一观测窗、所述第二观测窗以及所述第三观测窗分别设置在所述反应腔体的三个侧壁上。

在本发明所述的真空机台的真空反应腔中，所述视角扩大部件包括第一凸透镜以及第二凸透镜，所述第一凸透镜和第二凸透镜的主光轴重合，第一凸透镜的右焦点和第二凸透镜的左焦点重合。

在本发明所述的真空机台的真空反应腔中，所述视角扩大部件可相对所述透明观测玻璃前后移动。

在本发明所述的真空机台的真空反应腔中，所述视角扩大部件可拆卸的设置在所述反应腔体的所述侧壁上。

本发明实施例还提供一种真空机台，其包括真空反应腔以及反应操作装置；其中所述真空反应腔包括：

反应腔体，包括由四侧壁、一顶壁以及一底壁构成的一容纳空间；

承载基板，设置在所述反应腔体的所述底壁的中部，用于承载待处理基板；以及

观测窗，设置在所述反应腔体的所述侧壁上，用于观测所述反应腔体内的所述容纳空间；

其中所述观测窗包括用于观测操作的透明观测玻璃，以及用于扩大所述透明观测玻璃的观测视角的视角扩大部件。

在本发明所述的真空机台中，所述真空反应腔包括第一观测窗、第二观测窗以及第三观测窗，所述第一观测窗、所述第二观测窗以及所述第三观测窗分别设置在所述反应腔体的三个侧壁上。

在本发明所述的真空机台中，所述视角扩大部件包括第一凸透镜以及第二凸透镜，所述第一凸透镜和第二凸透镜的主光轴重合，第一凸透镜的右焦点和第二凸透镜的左焦点重合。

在本发明所述的真空机台中，所述视角扩大部件可拆卸的设置在所述反应腔体的所述侧壁上；所述视角扩大部件可相对所述透明观测玻璃前后移动。

相较于现有的真空机台的真空反应腔及真空机台，本发明的真空机台的真空反应腔及真空机台通过在反应腔体的侧壁上设置具有视角扩大部件的观测窗，便于对真空反应腔进行观测操作，提高了真空机台的生产效率，避免了真空机台的产能浪费；解决了现有的真空机台的真空反应腔及真空机台的生产效率低下且产能浪费比较严重的技术问题。

为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：

附图说明

图1为本发明的真空机台的真空反应腔的优选实施例的俯视结构示意图；

图2为沿图1的A-A’截面线的截面图；

图3为本发明的真空机台的真空反应腔的优选实施例的观测窗的结构示意图。