[发明专利]蚀刻剂和使用其制造显示器的方法

权利要求书

1.蚀刻剂，包括基于所述蚀刻剂的总量的：

0.5-20重量％的过硫酸盐；

0.01-2重量％的氟化合物；

1-10重量％的无机酸；

0.5-5重量％的唑化合物；

0.1-5重量％的给电子化合物；

0.1-5重量％的氯化合物；

0.05-3重量％的铜盐；

0.1-10重量％的有机酸或有机酸盐；和

余量的水，

其中所述给电子化合物为环状有机酸或环状有机酸盐，

其中所述环状有机酸包括选自如下的至少一种：松香酸、间氨基苯磺酸、核黄素、叶酸、没食子酸和抗坏血酸，和

所述环状有机酸盐包括选自如下的至少一种：所述环状有机酸的钾盐、钠盐、钙盐和铵盐，和

其中所述有机酸包括选自如下的至少一种：乙酸、丁酸、柠檬酸、甲酸、葡糖酸、羟基乙酸、丙二酸、草酸、戊酸、磺基苯甲酸、磺基琥珀酸、磺基邻苯二甲酸、水杨酸、磺基水杨酸、苯甲酸、乳酸、甘油酸、琥珀酸、苹果酸、酒石酸、异柠檬酸、丙烯酸、亚氨基二乙酸和乙二胺四乙酸，和

所述有机酸盐包括选自如下的至少一种：所述有机酸的钾盐、钠盐和铵盐。

2.如权利要求1中所述的蚀刻剂，其中所述环状有机酸盐包括选自如下的至少一种：L-抗坏血酸钾、L-抗坏血酸钙、和L-抗坏血酸钠。

3.如权利要求1中所述的蚀刻剂，其中所述过硫酸盐包括选自如下的至少一种：过硫酸钾、过硫酸钠、和过硫酸铵。

4.如权利要求1中所述的蚀刻剂，其中所述氟化合物包括选自如下的至少一种：氟化铵、氟化钠、氟化钾、氟化氢铵、氟化氢钠、和氟化氢钾。

5.如权利要求1中所述的蚀刻剂，其中所述无机酸包括选自如下的至少一种：硝酸、硫酸、磷酸、和高氯酸。

6.如权利要求1中所述的蚀刻剂，其中所述唑化合物包括选自如下的至少一种：5-氨基四唑、3-氨基-1,2,4-三唑、4-氨基-4H-1,2,4-三唑、苯并三唑、咪唑、吲哚、嘌呤、吡唑、吡啶、嘧啶、吡咯、吡咯烷、和吡咯啉。

7.如权利要求1中所述的蚀刻剂，其中所述氯化合物包括选自如下的至少一种：盐酸、氯化钠、氯化钾、和氯化铵。

8.如权利要求1中所述的蚀刻剂，其中所述铜盐包括选自如下的至少一种：硝酸铜、硫酸铜、和磷酸铵铜。

9.如权利要求1中所述的蚀刻剂，其中所述水为去离子水。

10.如权利要求1中所述的蚀刻剂，进一步包括金属离子封闭剂或防腐蚀剂。

11.制造显示器的方法，所述方法包括：

在基板上形成栅图案，所述栅图案用于形成彼此连接的栅极线和栅电极；

形成数据图案，所述数据图案用于形成与所述栅极线绝缘和交叉的数据线、连接至所述数据线的源电极以及与所述源电极隔开的漏电极；

形成连接至所述漏电极的像素电极；和

形成与所述像素电极绝缘的公共电极，

其中所述形成栅图案和所述形成数据图案的至少一个包括：

在所述基板上形成金属层；和

使用权利要求1-10中任一项的蚀刻剂蚀刻所述金属层。

12.如权利要求11中所述的制造显示器的方法，其中在所述基板上形成金属层包括：

在所述基板上形成第一金属层；和

在所述第一金属层上形成第二金属层。

13.如权利要求12中所述的制造显示器的方法，其中所述第一金属层是通过沉积包括铜的金属而形成的。

14.如权利要求12中所述的制造显示器的方法，其中所述第二金属层是通过沉积包括钛的金属而形成的。