[发明专利]蚀刻剂和使用其制造显示器的方法

说明书

本发明涉及蚀刻剂和使用其制造显示器的方法。所述蚀刻剂包括基于所述蚀刻剂的总量的约0.5‑约20重量％的过硫酸盐、约0.01‑约2重量％的氟化合物、约1‑约10重量％的无机酸、约0.5‑约5重量％的唑化合物、约0.1‑约5重量％的给电子化合物、约0.1‑约5重量％的氯化合物、约0.05‑约3重量％的铜盐、约0.1‑约10重量％的有机酸或有机酸盐、和余量的水。

相关申请的交叉引用

将2013年11月21日在韩国知识产权局提交并且题为“蚀刻剂和使用其制造显示器的方法”的韩国专利申请No.10-2013-0142280全部引入本文作为参考。

技术领域

实施方式涉及蚀刻剂和使用其制造显示器的方法。

背景技术

显示面板是用于驱动像素的开关器件并且可包括包含形成于其上的薄膜晶体管的显示基板。所述显示基板可包括通过光刻法工艺形成的多个金属图案。

发明内容

实施方式涉及蚀刻剂，其包括基于所述蚀刻剂的总量的约0.5-约20重量％的过硫酸盐、约0.01-约2重量％的氟化合物、约1-约10重量％的无机酸、约0.5-约5重量％的唑化合物、约0.1-约5重量％的给电子化合物、约0.1-约5重量％的氯化合物、约0.05-约3重量％的铜盐、约0.1-约10重量％的有机酸或有机酸盐、和余量的水。

所述给电子化合物可为环状有机酸或环状有机酸盐。

所述环状有机酸可包括选自如下的至少一种：松香酸、间氨基苯磺酸、核黄素、叶酸、没食子酸和抗坏血酸。所述环状有机酸盐可包括选自如下的至少一种：所述环状有机酸的钾盐、钠盐、钙盐和铵盐。

所述环状有机酸盐可包括选自如下的至少一种：L-抗坏血酸钾、L-抗坏血酸钙、和L-抗坏血酸钠。

所述过硫酸盐可包括选自如下的至少一种：过硫酸钾、过硫酸钠、和过硫酸铵。

所述氟化合物可包括选自如下的至少一种：氟化铵、氟化钠、氟化钾、氟化氢铵、氟化氢钠、和氟化氢钾。

所述无机酸可包括选自如下的至少一种：硝酸、硫酸、磷酸、和高氯酸。

所述唑化合物可包括选自如下的至少一种：5-氨基四唑、3-氨基-1,2,4-三唑、4-氨基-4H-1,2,4-三唑、苯并三唑、咪唑、吲哚、嘌呤、吡唑、吡啶、嘧啶、吡咯、吡咯烷、和吡咯啉。

所述氯化合物可包括选自如下的至少一种：盐酸、氯化钠、氯化钾、和氯化铵。

所述铜盐可包括选自如下的至少一种：硝酸铜、硫酸铜、和磷酸铵铜。

所述有机酸可包括选自如下的至少一种：乙酸、丁酸、柠檬酸、甲酸、葡糖酸、羟基乙酸、丙二酸、草酸、戊酸、磺基苯甲酸、磺基琥珀酸、磺基邻苯二甲酸、水杨酸、磺基水杨酸、苯甲酸、乳酸、甘油酸、琥珀酸、苹果酸、酒石酸、异柠檬酸、丙烯酸、亚氨基二乙酸和乙二胺四乙酸。所述有机酸盐可包括选自如下的至少一种：所述有机酸的钾盐、钠盐和铵盐。

所述水可为去离子水。

所述蚀刻剂可进一步包括金属离子封闭(阻断，blocking)剂或者防腐蚀剂。