[发明专利]折射率匹配膜、折射率匹配膜的制作方法及触摸屏

权利要求书

1.一种折射率匹配膜，其特征在于，所述折射率匹配膜包括：

基材(10)；

硬化层(20)，形成于所述基材(10)的一侧侧面上；

防粘连硬化层(30)，形成于所述基材(10)的另一侧侧面上；

第一折射率匹配层(40)，形成于所述防粘连硬化层(30)上，所述第一折射率匹配层(40)为分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的涂层。

2.根据权利要求1所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述金属氧化物的粒径为20～40nm。

3.根据权利要求1或2所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述金属氧化物选自二氧化锆、三氧化二铝、氧化锌和氧化锑中的任一种或多种。

4.根据权利要求1所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述第一折射率匹配层(40)的折射率为1.6～1.75，所述第一折射率匹配层的厚度为70～100nm。

5.根据权利要求1所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述防粘连硬化层(30)为包含粒径为60～90nm的二氧化硅的涂层。

6.根据权利要求5所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述二氧化硅的粒径为70～80nm。

7.根据权利要求5所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述防粘连硬化层(30)的折射率为1.5～1.52，所述防粘连硬化层(30)的厚度为2～2.5μm。

8.根据权利要求1所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述基材(10)包括聚酯膜层(11)以及形成于所述聚酯膜层(11)的两侧侧面的预涂层(12)。

9.根据权利要求8所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述聚酯膜层(11)的厚度为50～125μm，位于所述聚酯膜层(11)的一侧侧面上的所述预涂层(12)的厚度为60～120nm，所述硬化层(20)的厚度为4～4.5μm。

10.根据权利要求8所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述聚酯膜层(11)的折射率为1.63～1.65，所述预涂层(12)的折射率为1.575～1.58，所述硬化层(20)的折射率为1.5～1.52。

11.一种折射率匹配膜的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括以下步骤：

形成基材(10)；

在所述基材(10)的一侧侧面上形成硬化层(20)；

在所述基材(10)的另一侧侧面上形成防粘连硬化层(30)；

在所述防粘连硬化层(30)上形成第一折射率匹配层(40)，所述第一折射率匹配层(40)为分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的涂层。

12.根据权利要求11所述的制作方法，其特征在于，形成所述第一折射率匹配层(40)的步骤包括：

将含有所述金属氧化物的高折射率硬化液和有机溶剂混合形成混合溶剂；

将所述混合溶剂涂布到所述防粘连硬化层(30)上；

对所述混合溶剂依次进行干燥和紫外照射后形成所述第一折射率匹配层(40)。

13.根据权利要求12所述的制作方法，其特征在于，所述高折射率硬化液包括90～95wt％的丙烯酸酯、3～5wt％的所述金属氧化物和2～4wt％的光聚合引发剂，所述混合溶剂中所述金属氧化物的含量为20～40wt％。

14.一种触摸屏，其特征在于，所述触摸屏包括：

权利要求1至10中任一项所述的折射率匹配膜；

第二折射率匹配层(50)，形成于所述折射率匹配膜中的第一折射率匹配层(40)上，且所述第二折射率匹配层(50)的折射率小于所述第一折射率匹配层(40)的折射率；以及

透明导电层(60)，形成于所述第二折射率匹配层(50)上。

15.根据权利要求14所述的触摸屏，其特征在于，所述第二折射率匹配层(50)为SiO₂层，所述透明导电层(60)为ITO层。