[发明专利]折射率匹配膜、折射率匹配膜的制作方法及触摸屏

说明书

技术领域

本发明涉及硬化膜技术领域，具体而言，涉及一种折射率匹配膜、折射率匹配膜的制作方法及触摸屏。

背景技术

目前，市场上用于触摸屏的基材主要有双面硬化膜和折射率匹配膜(IM膜)。其中，双面硬化膜和折射率匹配膜均能满足现有触摸屏的基本需求。然而，当采用双面硬化膜作为触摸屏的基材时，下游镀膜厂家需在其中的一面镀三层膜(高折射率层、低折射率层和导电膜层)，且镀膜时无法提速，生产效率极低。同时，终端客户只能采用油墨网印工艺对双面硬化膜进行蚀刻，从而限制了客户所采用的制成工艺。

现有IM膜主要包括IM膜(1+1结构)和IM膜(1+3结构)。其中，IM膜(1+1结构)的雾度达到1.2％以上，作为ITO膜用时需在高折HC面溅镀三层材料(高折层，低折层及ITO层)，且溅镀时无法提速、生产效率低、成本高且IM膜的挺性一般，影响终端客户蚀刻效率。IM膜(1+3结构)作为ITO膜用时需在高折HC面溅镀二层材料(低折层及ITO层)，溅镀时虽可以提速，使其生产效率较高；但其制造成本高、雾度高、良率低，严重影响经济效益。针对上述问题，目前还没有有效的解决方法。

发明内容

本发明旨在提供一种折射率匹配膜、折射率匹配膜的制作方法及触摸屏，以降低折射率匹配膜的雾度，并提高折射率匹配膜和ITO层的接着性。

为此，本发明提供了一种折射率匹配膜，该折射率匹配膜包括：基材；硬化层，形成于基材的一侧侧面上；防粘连硬化层，形成于基材的另一侧侧面上；第一折射率匹配层，形成于防粘连硬化层上，第一折射率匹配层为分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的涂层。

进一步地，金属氧化物的粒径为20～40nm。

进一步地，金属氧化物选自二氧化锆、三氧化二铝、氧化锌和氧化锑中的任一种或多种。

进一步地，第一折射率匹配层的折射率为1.6～1.75，第一折射率匹配层的厚度为70～100nm。

进一步地，防粘连硬化层为包含粒径为60～90nm的二氧化硅的涂层。

进一步地，二氧化硅的粒径为70～80nm。

进一步地，防粘连硬化层的折射率为1.5～1.52，防粘连硬化层的厚度为2～2.5μm。

进一步地，基材包括聚酯膜层以及形成于聚酯膜层的两侧侧面预涂层。

进一步地，聚酯膜层的厚度为50～125μm，位于聚酯膜层的一侧侧面上的预涂层的厚度为60～120nm，硬化层的厚度为4～4.5μm。

进一步地，聚酯膜层的折射率为1.63～1.65，预涂层的折射率为1.575～1.58，硬化层的折射率为1.5～1.52。

同时，本发明还提供了一种折射率匹配膜的制作方法，该制作方法包括以下步骤：形成基材；在基材的一侧侧面上形成硬化层；在基材的另一侧侧面上形成防粘连硬化层；在防粘连硬化层上形成第一折射率匹配层，第一折射率匹配层为分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的涂层。

进一步地，形成第一折射率匹配层的步骤包括：将含有金属氧化物的高折射率硬化液和有机溶剂混合形成混合溶剂；将混合溶剂涂布到防粘连硬化层上；对混合溶剂依次进行干燥和紫外照射后形成第一折射率匹配层。

进一步地，高折射率硬化液包括90～95wt％的丙烯酸酯、3～5wt％的金属氧化物和2～4wt％的光聚合引发剂，混合溶剂中金属氧化物的含量为20～40wt％。

同时，本发明还提供了一种触摸屏，该触摸屏包括：本发明提供的折射率匹配膜；第二折射率匹配层，形成于折射率匹配膜中的第一折射率匹配层上，且第二折射率匹配层的折射率小于第一折射率匹配层的折射率；以及透明导电层，形成于第二折射率匹配层上。

进一步地，第二折射率匹配层为SiO₂层，透明导电层为ITO层。

本发明的技术效果：本发明通过在防粘连硬化层上形成分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的第一折射率匹配层，从而有效降低了折射率匹配膜的雾度，并提高了折射率匹配膜和ITO层的接着性，且该折射率匹配膜具有较好的透光性、硬度和耐磨性。与现有IM膜(1+1结构)和双面硬化膜相比，本发明提供的折射率匹配膜能够使溅镀过程少镀膜一层，从而有效提高生产效率，且该折射率匹配膜的制作成本低且有很好的加工性，所以具有很大的经济效益和市场空间。

附图说明

构成本发明的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：