[发明专利]一种具有高遮盖力的复合薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种具有高遮盖力的复合薄膜的制备方法，其特征在于，首先将市售纳米TiO₂粉体超声分散于酪素的三乙醇胺溶液中，得到酪素/纳米TiO₂混合液，然后加入己内酰胺水溶液对酪素进行疏水化改性，得己内酰胺改性酪素/纳米TiO₂复合乳液，再加入丙烯酸酯类单体及引发剂聚合后得到酪素基TiO₂纳米复合乳液，最后将酪素基TiO₂纳米复合乳液流延成膜，得到具有高遮盖力的酪素基二氧化钛复合薄膜。

2.如权利要求1所述一种具有高遮盖力的复合薄膜的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：

步骤一：将质量份数为4.25～10份的干酪素、1.5～3.1份三乙醇胺及33～83份去离子水加入反应器中，搅拌溶解后得到酪素溶解液；

步骤二：向步骤一得到的酪素溶解液中加入质量份数为0.435～0.6份的纳米二氧化钛粉体，超声分散，然后持续搅拌并升温至70℃～80℃，得到酪素/纳米TiO₂混合液；

步骤三：将配制好的己内酰胺水溶液滴加到步骤二得到的酪素/纳米TiO₂混合液中，滴加完毕后，继续保温反应150～200分钟，得到己内酰胺改性酪素/纳米TiO₂复合乳液；

步骤四：将配置好的混合丙烯酸类单体与引发剂水溶液同时滴加到步骤三得到的己内酰胺改性酪素/纳米TiO₂复合乳液中，待滴加完毕，控制温度60～80℃，保温反应100～150分钟后，停止反应，即获得无皂法制备的酪素基TiO₂纳米复合乳液；

步骤五：将步骤四得到的酪素基TiO₂纳米复合乳液在培养皿中流延成膜，先室温干燥，再真空干燥，即得到具有高遮盖力的酪素基二氧化钛复合薄膜。

3.如权利要求2所述一种具有高遮盖力的复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤一中搅拌的温度为65～75℃，时间为120～180分钟。

4.如权利要求2所述一种具有高遮盖力的复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤二中纳米二氧化钛粉体的粒径为2～10nm。

5.如权利要求2所述一种具有高遮盖力的复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤二中超声分散的时间为5～10分钟。

6.如权利要求2所述一种具有高遮盖力的复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤三中己内酰胺水溶液的质量浓度为25％，己内酰胺的质量份数为3.56～5.78份。

7.如权利要求2所述一种具有高遮盖力的复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤四中混合丙烯酸类单体包括丙烯酸甲酯1.2～2.3份，丙烯酰胺0.3～0.5份。

8.如权利要求2所述一种具有高遮盖力的复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤四中引发剂水溶液的质量浓度为1.5％，引发剂水溶液的质量份数为0.56～15.36份。

9.如权利要求2所述一种具有高遮盖力的复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤四中引发剂为硫酸铵或偶氮二异丁酯。

10.如权利要求2所述一种具有高遮盖力的复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤五中室温干燥的时间为10～16h；真空干燥的温度为40～60℃、时间3～5h。