[发明专利]一种掩模上版装置及校准方法

说明书

本发明提供一种掩模上版装置，其特征在于，包括：传输机构，用于传输掩模版，所述传输机构包括第一第二机械手以及气缸，所述第一第二机械手的一端与所述气缸固定，所述第一机械手用于将所述掩模版从版库内取出传输至机械预对准装置以实现所述掩模版预对准，所述第二机械手用于将完成预对准的掩模版自所述机械预对准装置传输至掩模台。

技术领域

本发明涉及集成电路装备制造领域，尤其涉及一种掩模上版装置及校准方法。

背景技术

目前，随着光刻机关键尺寸的不断缩小,对半导体行业产率,可靠性的要求越来越高，对光刻机的可靠性的要求也不断提高。众所周知，影响光刻机可靠性的主要是硅片传输，掩模传输分系统。而掩模传输又由于掩模版的昂贵成本和高精度，又有着更高可靠性和掩模版高安全性的要求。而目前比较常见的结构是由能实现多自由度运动的机械手在掩模版存储区传输掩模版，通过对准机构，将满足一定重复性要求的掩模版放到掩模台上进行曝光，目前，专利CN1493921及US20130338830A1采用多关节的机械手。采用这种多自由度运动的机械手存在的问题有：

1、多自由度的机械手容易与周围，比如和两个内部版库，两个外部版库，发生碰撞，导致掩模版损坏，或者机械手损坏；

2、多自由度机械手结构，控制系统复杂，成本高昂；

3、多自由度机械手的保护机制主要是从软件上考虑安全性，这极大地降低了真正的安全性。

发明内容

为了克服现有技术中存在的缺陷，本发明公开一种掩模上版装置及校准方法，该装置具有高可靠性，低成本，高安全性。

为了实现上述发明目的，本发明提供一种掩模上版装置，其特征在于，包括：传输机构，用于传输掩模版，所述传输机构包括第一第二机械手以及气缸，所述第一第二机械手的一端与所述气缸固定，所述第一机械手用于将所述掩模版从版库内取出传输至机械预对准装置以实现所述掩模版预对准，所述第二机械手用于将完成预对准的掩模版自所述机械预对准装置传输至掩模台。

更进一步地，所述装置还包括保护装置，用于保证所述第一第二机械手不相互碰撞。所述保护装置包括电气保护装置，用于实现所述第一第二机械手位于不同工位。所述保护装置包括机械保护装置，所述机械保护装置为位于所述气缸上的一开口，所述开口位置与所述第一机械手的版库前工位相对应。

更进一步地，所述第一机械手通过基座与所述气缸固定，所述第一机械手包括机械夹持版叉。

更进一步地，所述第一机械手的第一、第二驱动电机安装于所述基座上，用于提供沿Y轴、Z轴运动。

更进一步地，所述第二机械手通过基座与所述气缸固定，所述第二机械手包括真空吸附版叉。

更进一步地，所述第二机械手的第三驱动电机安装于所述基座上，用于提供沿Z轴运动。

更进一步地，所述第二机械手的真空吸附版叉包括真空吸附区和多个夹持手。

更进一步地，所述气缸在沿X轴方向运动有四个工位。

更进一步地，所述掩模台包括四象限传感器。

本发明同时公开一种掩模上版装置的校准方法，包括：步骤一、对掩模台的四象限传感器校准；步骤二、利用第二机械手重复上载掩模版、配合所述四象限传感器获得机械预对准装置的偏移量，根据所述偏移量校准所述机械预对准装置；步骤三、建立不同所述掩模版的外形偏差数据库。