[发明专利]用于控制工件货批制程的方法、储存媒体和系统有效

专利信息
申请号: 201410749088.7 申请日: 2014-12-09
公开(公告)号: CN104700198B 公开(公告)日: 2019-04-19
发明(设计)人: G·格劳;S·卡利什;J·卫刚;W·J·福斯耐特;C·奥萨;D·帕布斯特 申请(专利权)人: 格罗方德半导体公司
主分类号: G06Q10/06 分类号: G06Q10/06;G06Q50/04
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 英属开曼群*** 国省代码: 开曼群岛;KY
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摘要:
搜索关键词: 储存设备 储存媒体 设备处理 制程 移动 判定 指派 关联 接续
【说明书】:

本发明涉及用于控制工件货批制程的方法、储存媒体和系统,提供一种方法,包含以至少一个第一设备处理多个货批的各者并将一部份的该多个货批移动到第一储存设备。对多个第二设备的各者,判定将由该第二设备处理的一个或多个接续货批的预期派送时间。以至少所判定的该预期派送时间为基础,指派在该第一储存设备中的该些货批的各者到该多个第二设备的一者,并将该些货批的各者移动到多个第二储存设备的一者,该第二储存设备的该一者是关联于各别的该货批所指派的该多个第二设备的一者。对该多个第二设备的各者,将在关联于该第二设备的该第二储存设备中的该些货批的各者移动到该第二设备,并以该第二设备来处理。

技术领域

一般而言,本发明关于产品制造,且尤其是关于利用半导体机台制造半导体装置。

背景技术

在具有高复杂度的产品制造中,举例而言,譬如集成电路的半导体装置,各种不同的制程利用多个机台来实行。可以用于集成电路的制造的机台的范例包含用于实行微影制程的步进机;用于沉积材料层在半导体结构上的沉积机台,譬如化学气相沉积反应器、电浆强化化学气相沉积反应器、用于实行物理气相沉积、原子层沉积及/或旋转涂布的设备;用于实行蚀刻制程的蚀刻机台,譬如干式蚀刻及湿式蚀刻;用于实行譬如氧化、退火和各种清洁制程的制程的机台;以及用于监控制程和在制程的各个阶段检测半导体装置的缺陷的量测机台。

在制程中,数个工件可以被结合成货批(lot),该工件在半导体装置的制造中典型地包含半导体晶圆,在制程的特定阶段,各个晶圆包含数个半导体装置。货批中的工件实质地用相同的方式处理并且典型地是利用相同的机台。对于操控货批,可以使用载具。货批中的工件被插入载具中以在机台间移动工件,该些机台被用来执行货批中的工件的制程。

对于传输该载具,可以使用自动化物料传输系统,其中,自动化物料传输系统以自动的方式移动载具,举例而言,利用由计算器系统所控制的载运工具(vehicle)及/或机器人。该计算器系统可以接收来自各种机台的数据,以及来自自动化物料传输系统的数据,并且可以将货批的工件指派到特定机台。将货批的工件指派到机台的工作可以基于特定机台的可用性(availability)、制程的限制、以及该货批的先后次序来实行。制程的限制可包含最大可允许的停伫时间(queue time),必须观察该停伫时间以避免在一些特定关键制程之间过长的等待时间对所制造的产品的质量的不良影响。需要被更快速处理的货批,举例而言,以完成的最后时限的观点来看,可以得到较优先的次序。

美国专利第5,980,183号揭露一种用于传输和储存半导体晶圆的系统,其可以用在半导体装置的制造中。该系统包括多个储存位置,其沿着含有制程机台的机台群组(toolbay)的墙来设置。多个储存位置中的储存位置可以以彼此的顶端垂直对齐。该系统复包括传送机构。该传送机构能够从该多个储存位置的上方及/或侧面在该多个储存位置之间来回地传输多个晶圆盒(Pod),以及从该多个制程机台的上方及/或侧面在该多个制程机台之间来回地传输多个晶圆盒,而不需要在该多个储存位置之间以及该多个储存位置和该多个制程机台之间的传输过程中切换该晶圆盒。

传统上,货批的工件可以被尽快的指派给特定机台,举例而言,一旦在由另一个机台所执行的制程的先前步骤完成之后。一旦工件货批被指派给机台,该货批可以被移动到该机台并被包含到将被该机台处理的货批的队列中。该货批会停留在该队列中直到该机台准备好处理它。在需要用比已经在队列中的货批更高顺位被处理的工件货批抵达时,使用这个策略会导致问题。重新排序在队列中的货批可需要取消目前的队列正在进行的动作,例如传送,或其可能关系到需要由该自动化物料传输系统执行的额外动作,并且可以关系到该机台的生产率的损失。

有鉴于上述的情形,本发明提供可以有助于实质避免或至少减低部分或全部上述问题的方法、系统以及数据储存媒体。

发明内容

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