[发明专利]偏光膜的缺陷检测装置以及方法在审
申请号: | 201410766749.7 | 申请日: | 2014-12-11 |
公开(公告)号: | CN104713886A | 公开(公告)日: | 2015-06-17 |
发明(设计)人: | 许宰宁;朴宰贤 | 申请(专利权)人: | 东友精细化工有限公司 |
主分类号: | G01N21/896 | 分类号: | G01N21/896 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 韩国全*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 偏光 缺陷 检测 装置 以及 方法 | ||
1.一种偏光膜的缺陷检测装置,其特征在于,该偏光膜的缺陷检测装置具有:
接收部,其接收由自动光学检查机检查出的针对偏光膜的检查结果;以及
检测部,其分析所述检查结果,检测偏光膜的缺陷,
所述检测部根据缺陷类型、ΔX、ΔY、面积、密度、尺寸、峰值、厚度中的两个以上的参数,判别所述偏光膜的缺陷形态是接合异物、接合气泡、异物、亮点、刮痕、集群性亮点、一条线中的至少任意一种。
2.根据权利要求1所述的偏光膜的缺陷检测装置,其特征在于,
所述偏光膜的缺陷检测装置还具有报知部,该报知部通过输出装置报知由所述检测部检测出的缺陷形态。
3.根据权利要求1或2所述的偏光膜的缺陷检测装置,其特征在于,
所述检测部在缺陷类型为凹凸状且尺寸为300μm以上的情况下,判别为所述偏光膜的缺陷形态是接合异物。
4.根据权利要求1或2所述的偏光膜的缺陷检测装置,其特征在于,
所述检测部在缺陷类型为黑点、尺寸为100μm以上且小于540μm、面积为90μm2以上且1140μm2以下、ΔX为120μm以上且780μm以下、ΔY为210μm以下、厚度小于66μm且峰值小于20的情况下,判别为所述偏光膜的缺陷形态是接合气泡。
5.根据权利要求1或2所述的偏光膜的缺陷检测装置,其特征在于,
所述检测部在缺陷类型为黑点、尺寸为160μm以下、面积为300μm2以下且ΔX为150μm以下的情况下,判别为所述偏光膜的缺陷形态是异物。
6.根据权利要求1或2所述的偏光膜的缺陷检测装置,其特征在于,
所述检测部在缺陷类型为白点、峰值为16以上且ΔY为450μm以下的情况下,判别为所述偏光膜的缺陷形态是亮点。
7.根据权利要求1或2所述的偏光膜的缺陷检测装置,其特征在于,
所述检测部在缺陷类型为白点、ΔX为105μm以下、ΔY为150μm以上且峰值为50以下的情况下,判别为所述偏光膜的缺陷形态是刮痕。
8.根据权利要求1或2所述的偏光膜的缺陷检测装置,其特征在于,
所述检测部在缺陷类型为白点、ΔX与ΔY之间的差分为45μm以上、峰值为16以上、ΔX为420μm以下、ΔY为1260μm以下且密度为7.5以下的情况下,判别为所述偏光膜的缺陷形态是集群性亮点。
9.根据权利要求1或2所述的偏光膜的缺陷检测装置,其特征在于,
所述检测部在峰值为50以上、密度为6.75以下、厚度为42μm以上且ΔX为150μm以上的情况下,判别为所述偏光膜的缺陷形态是一条线。
10.根据权利要求1或2所述的偏光膜的缺陷检测装置,其特征在于,
所述检测部在不能检测出接合异物、接合气泡、异物、亮点、刮痕、集群性亮点、一条线中的任意一种缺陷形态而跳过的情况下,再次检测其它缺陷形态。
11.一种偏光膜缺陷检测方法,其特征在于,该偏光膜缺陷检测方法包含如下步骤:
接收由自动光学检查机检查出的针对偏光膜的检查结果;以及
分析所述检查结果,检测偏光膜的缺陷,
在检测所述缺陷的步骤中,根据缺陷类型、ΔX、ΔY、面积、密度、尺寸、峰值、厚度中的两个以上的参数,判别所述偏光膜的缺陷形态是接合异物、接合气泡、异物、亮点、刮痕、集群性亮点、一条线中的至少任意一种。
12.根据权利要求11所述的偏光膜缺陷检测方法,其特征在于,
在所述偏光膜缺陷检测方法中,还包含如下步骤:通过输出装置报知所述检测出的缺陷形态。
13.根据权利要求11或12所述的偏光膜缺陷检测方法,其特征在于,
在所述检测步骤中,在缺陷类型为凹凸状且尺寸为300μm以上的情况下,判别为所述偏光膜的缺陷形态是接合异物。
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