[发明专利]固体清洗剂的分析方法

权利要求书

1.固体清洗剂的分析方法，包括以下步骤：

S1、提供固体清洗剂，所述固体清洗剂含有硅酸盐；

S2、使用XRD分析所述的固体清洗剂，得到固体清洗剂中的预估硅元素含量；

S3、将固体清洗剂溶于水，稀释，得到待测溶液；所述稀释倍数是通过所述的预估硅元素含量，使得待测溶液中硅元素的含量控制在1-10ppm；

S4、使用ICP分析待测溶液，得到精确硅元素含量。

2.根据权利要求1所述的固体清洗剂的分析方法，其特征在于，所述S1与S2步骤之间，还包括固体清洗剂研磨处理步骤，研磨处理步骤使得固体清洗剂组分均一。

3.根据权利要求1所述的固体清洗剂的分析方法，其特征在于，所述S3步骤中的待测溶液中硅元素的含量控制在2-7ppm。

4.根据权利要求1所述的固体清洗剂的分析方法，其特征在于，所述的固体清洗剂由硅酸盐、硫酸盐、碳酸盐、磷酸盐、表面活性剂组成。

5.根据权利要求1所述的固体清洗剂的分析方法，其特征在于，所述的硅酸盐是指硅酸钠、无水硅酸钠、硅酸钾、偏硅酸钠、无水偏硅酸钠、偏硅酸钾、偏硅酸锂中的一种或几种。

6.固体清洗剂的分析系统，包括含硅酸盐的固体清洗剂、XRD分析仪、待测溶液、ICP分析仪，所述XRD分析仪用于预估含硅酸盐的固体清洗剂中的硅元素含量；所述待测液通过含硅酸盐的固体清洗剂加入去离子水稀释得到，所述稀释倍数通过预估的硅元素，控制待测液中硅元素含量1-10ppm得到；所述ICP分析仪用于分析所述待测液，得到固体清洗剂中硅元素的精确含量。

7.根据权利要求1所述的固体清洗剂的分析系统，其特征在于，所述固体清洗剂经过研磨处理，研磨处理使得固体清洗剂组分均一。

8.根据权利要求1所述的固体清洗剂的分析系统，其特征在于，所述待测溶液中硅元素的含量控制在2-7ppm。

9.根据权利要求1所述的固体清洗剂的分析系统，其特征在于，所述的固体清洗剂由硅酸盐、硫酸盐、碳酸盐、磷酸盐、表面活性剂组成。

10.根据权利要求1所述的固体清洗剂的分析系统，其特征在于，所述的硅酸盐是指硅酸钠、无水硅酸钠、硅酸钾、偏硅酸钠、无水偏硅酸钠、偏硅酸钾、偏硅酸锂中的一种或几种。