[发明专利]固体清洗剂的分析方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种硅酸盐的分析方法，特别涉及固体清洗剂中复配硅酸盐的分析方法。

背景技术

金属在加工过程中需要清洗防锈油，切削液，冲压油，这需要清洗剂有良好的去污，乳化，防锈，溶解能力，另外，一些机械零部件在使用过程中也有沾染大量的黄油，机械油，这也形成了重油污染物。

在固体清洗剂的配方体系中，要求清洗液必须有较强的溶解能力和较低的表面张力，有较长的使用周期，含氧硅酸盐由于其良好的乳化、缓蚀、螯合能力，广泛应用于清洗粉中。但是固体清洗剂中的一般会加入几种不同类型的螯合剂，如磷酸盐、硅酸盐、碳酸盐等，这些无机物分离比较困难，定量存在偏差。

发明内容

本发明通过大量的实验发现，使用XRD分析固体清洗剂中的硅酸盐，无法精确定量。固体清洗剂中含有硫酸盐、碳酸盐、磷酸盐、硅酸盐、表面活性剂等，体系复杂，本发明使用XRD对硅元素的含量进行预估，根据预估数据，将固体清洗剂溶于水，将水溶液中的硅元素的浓度控制在1.0-10.0ppm之间，使用ICP对硅元素进行精确定量，采用本发明的方法能够实现对硅元素的精确定量。

固体清洗剂中硅酸盐的分析方法，包括以下步骤：

S1、提供固体清洗剂，所述固体清洗剂含有硅酸盐；

S2、使用XRD分析所述的固体清洗剂，得到固体清洗剂中的预估硅元素含量；

S3、将固体清洗剂溶于水，稀释，得到待测溶液；所述稀释倍数是通过所述的预估硅元素含量，使得待测溶液中硅元素的含量控制在1-10ppm；

S4、使用ICP分析待测溶液，得到精确硅元素含量。

所述S1与S2步骤之间，还包括固体清洗剂研磨处理步骤，研磨处理步骤使得固体清洗剂组分均一。

所述S3步骤中的待测溶液中硅元素的含量控制在2-7ppm。

所述的固体清洗剂由硅酸盐、硫酸盐、碳酸盐、磷酸盐、表面活性剂组成。

所述的硅酸盐是指硅酸钠、无水硅酸钠、硅酸钾、偏硅酸钠、无水偏硅酸钠、偏硅酸钾、偏硅酸锂中的一种或几种；

所述的固体清洗剂中的碳酸盐、硫酸盐、磷酸盐的质量分为均为1-10%。

固体清洗剂中硅酸盐的分析系统，包括含硅酸盐的固体清洗剂、XRD分析仪、待测溶液、ICP分析仪，所述XRD分析仪用于预估含硅酸盐的固体清洗剂中的硅元素含量；所述待测液通过含硅酸盐的固体清洗剂加入去离子水稀释得到，所述稀释倍数通过预估的硅元素，控制待测液中硅元素含量1-10ppm得到；所述ICP分析仪用于分析所述待测液，得到固体清洗剂中硅元素的精确含量。

所述固体清洗剂经过研磨处理，研磨处理使得固体清洗剂组分均一。

所述待测溶液中硅元素的含量控制在2-7ppm。

所述的固体清洗剂由硅酸盐、硫酸盐、碳酸盐、磷酸盐、表面活性剂组成。

所述的硅酸盐是指硅酸钠、无水硅酸钠、硅酸钾、偏硅酸钠、无水偏硅酸钠、偏硅酸钾、偏硅酸锂中的一种或几种；

所述的固体清洗剂中的碳酸盐、硫酸盐、磷酸盐的质量分为均为1-10%。

本发明方法能准确定性固体复配清洗剂中含氧硅酸盐；排除了FTIR无法准确定性混合物的困难；

本发明方法能准确定量固体清洗剂中含氧硅酸盐，解决了XRF无法准确定量含氧硅酸盐含量的困难；

对于大部分体系，ICP的线性范围可达到4-5个数量级，所以可直接稀释至线型范围，但是本发明的发明人通过实验发现其误差较大，通过XRD与ICP配合，提高了检测的准确度。本发明方法操作步骤简单，节约前处理成本。

说明书附图

图1为样品1原样的XRD谱图（实施例1）；

图2为样品2原样的XRD谱图（实施例2）；

图3为样品3原样的XRD谱图（实施例3）；

图4为样品4原样的XRD谱图（实施例4）；

具体实施方式

ppm是指g/g，即每克待测样品中的硅元素的质量数（g）。

固体清洗剂中硅酸盐的分析方法，包括以下步骤：

S1、提供固体清洗剂，所述固体清洗剂含有硅酸盐；

S2、使用XRD分析所述的固体清洗剂，得到固体清洗剂中的预估硅元素含量；

S3、将固体清洗剂溶于水，稀释，得到待测溶液；所述稀释倍数是通过所述的预估硅元素含量，使得待测溶液中硅元素的含量控制在1-10ppm；

S4、使用ICP分析待测溶液，得到精确硅元素含量。