[发明专利]基于光栅衍射的晶体自准直调整装置和方法有效

专利信息
申请号: 201410779031.1 申请日: 2014-12-16
公开(公告)号: CN104503100B 公开(公告)日: 2017-12-15
发明(设计)人: 刘代中;秦海棠;欧阳小平;王阳;杨冬;朱宝强 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G02B27/30 分类号: G02B27/30
代理公司: 上海新天专利代理有限公司31213 代理人: 张泽纯,张宁展
地址: 201800 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 光栅 衍射 晶体 调整 装置 方法
【说明书】:

技术领域

发明与高功率激光装置有关,特别是一种在高功率激光装置中基于光栅衍射的晶体自准直调整装置和方法。

背景技术

国内外目前用于惯性约束核聚变的高功率激光装置,例如我国的神光П,美国的NIF装置,都要涉及晶体的自准直调整。传统的晶体自准直技术采用的是在漏光反射镜后面建立一个远场监测系统,其光路结构如图1所示。从晶体10表面返回的激光通过漏光反射镜2后,经过远场成像透镜8聚焦到远场探测器9上。传统的晶体自准直过程如下,首次调整时要在晶体10前放置一块角锥,让激光沿原路返回,用远场探测器9记录返回的光斑位置,即为基准位置,然后撤掉角锥,把晶体10放置于光路中,在远场探测器9上看到晶体返回的焦斑位置,如果与基准位置不同,则调整晶体10直到与基准位置相同。

这种方案整个光路的体积比较庞大,需要使用大口径的成像透镜,价格比较昂贵。

发明内容

本发明要解决的技术在于克服上述现有技术的问题,提供一种基于光栅衍射的晶体自准直调整装置,该装置具有设备简、调整易、精度高的特点。

本发明的技术解决方案如下:

一种基于光栅衍射的晶体自准直调整装置,特点在于其构成包括:一紧贴空间滤波器小孔后放置的透射光栅,光栅中心有一个直径大于焦斑直径的圆形未刻蚀区;发光二极管和准直透镜构成准直的非相干照明光源,照射所述的透射光栅;由成像透镜和远场探测器置于所述的透射光栅的衍射光束方向构成远场成像系统,所述的远场探测器的输出接一计算机;计算机控制的需要自准直调整的晶体。

利用所述的基于光栅衍射的晶体自准直调整装置实现高功率激光装置中晶体自准直调整的方法,包括如下步骤:

①在主激光方向依次是所述的空间滤波器和待调整的晶体,首先在空间滤波器的小孔的后面紧贴其小孔板放置所述的透射光栅,并保证小孔的中心和光栅的中心重合;

②打开主激光,激光束的焦斑穿过小孔且穿过光栅的圆形未刻蚀区,最终照射到需要调整的晶体上;

③打开发光二极管照射透射光栅产生衍射,调整非相干照明光源的准直光束的入射角,使透射光栅产生的一级或者二级衍射光,使透射光栅轮廓图像通过成像透镜成像在远场探测器上,该远场探测器将透射光栅轮廓图像输入所述的计算机;

④根据计算机上透射光栅的轮廓图像,调整晶体,使晶体表面反射的主激光的焦斑调进入透射光栅轮廓图像的圆形未刻蚀区,即完成晶体的自准直调整。

本发明的技术效果如下:

通过在小孔板后面放置带有圆形未刻蚀区的透射光栅,将发光二级管照明光通过光栅的衍射光成像到远场探测器上,避免了使用大口径的成像透镜,根据光栅的轮廓图像,精确地将晶体表面反射的主激光的焦斑光斑调进光栅的圆形未刻蚀区。经试用表明,本装置具有设备简、调整易、精度高的特点。

附图说明

图1是传统的晶体自准直调整装置的光路示意图

图2是本发明基于光栅衍射的晶体自准直调整装置的光路示意图

图中:1-第一反射镜 2-漏光反射镜 3-小孔 4-透射光栅 5-空间滤波器 6-发光二极管 7-准直透镜 8-成像透镜 9-远场探测器 10-晶体

具体实施方式

下面结合实施例和附图对本发明作进一步说明,但不应以此限制本发明的保护范围。

先请参阅图2,图2是本发明基于光栅衍射的晶体自准直调整装置的光路示意图,由图可见,本发明基于光栅衍射的晶体自准直调整装置的构成包括:

一紧贴空间滤波器5小孔3后放置的透射光栅4,光栅中心有一个直径大于焦斑直径的圆形未刻蚀区;

发光二极管6和准直透镜7构成准直的非相干照明光源,照射所述的透射光栅4;

由成像透镜8和远场探测器9置于所述的透射光栅4的衍射光束方向构成远场成像系统,所述的远场探测器9的输出接一计算机;

该计算机控制的需要自准直调整的晶体10。

利用所述的基于光栅衍射的晶体自准直调整装置实现高功率激光装置中晶体的自准直调整方法,包括如下步骤:

①在主激光方向依次是所述的空间滤波器5和待调整的晶体10,首先在空间滤波器5的小孔3的后面紧贴其小孔板放置所述的透射光栅4,并保证小孔3的中心和透射光栅4的中心重合;

②打开主激光,主激光束穿过小孔3和透射光栅4,最终照射到待调整的晶体10上;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所,未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410779031.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top