[发明专利]光学器件及其制造方法和母板的制造方法

权利要求书

1.一种具有防反射功能的光学器件的制造方法，所述方法包括以下步骤：

在圆柱状或圆筒状的母板的圆周面上形成抗蚀层；

一边旋转其上形成了所述抗蚀层的所述母板并且平行于所述圆柱状或圆筒状的母板的中心轴相对移动激光束的光点，一边间歇性地将激光束照射在所述抗蚀层上，以比可见光波长更小的节距形成潜像；

显影所述抗蚀层，在所述母板的表面上形成抗蚀图案；

通过实施以所述抗蚀图案作为掩模的蚀刻处理，在所述母板的表面上形成凹状或凸状的结构体；以及

使用其上形成了所述结构体的所述母板，制备转印有所述结构体的光学器件，

在所述潜像的形成步骤中，所述潜像被配置为在所述母板的表面上形成多列轨迹，并形成准六方点阵图案、四方点阵图案或准四方点阵图案，

所述结构体的转印步骤包括：

在基底上形成包含硅氧烷树脂的树脂层；以及

将所述母板压在所述树脂层上来转印所述母板的结构体，

所述结构体对所述母板的表面的填充率等于或高于65％。

2.一种光学器件，是利用如权利要求1所述的光学器件的制造方法制造的光学器件，具有防反射功能，所述光学器件包括：

基底；以及

多个结构体，由凸部或凹部形成，以等于或小于可见光波长的微小节距配置在所述基底的表面上，

各所述结构体被配置为在所述基底的表面上形成多列轨迹，并且形成六方点阵图案、准六方点阵图案、四方点阵图案或准四方点阵图案，

所述结构体对所述基底的表面的填充率等于或高于65％。

3.根据权利要求2所述的光学器件，所述结构体对所述基底的表面的填充率等于或高于73％。

4.根据权利要求3所述的光学器件，所述结构体对所述基底的表面的填充率等于或高于86％。

5.根据权利要求2所述的光学器件，

各所述结构体被配置为形成具有直线形状的多列轨迹，并形成准六方点阵图案，

在所述轨迹的延伸方向上的所述结构体的高度或深度小于在所述轨迹的列方向上的所述结构体的高度或深度。

6.根据权利要求2所述的光学器件，

各所述结构体被配置为形成具有直线形状的多列轨迹，并形成四方点阵图案或准四方点阵图案，

在相对于所述轨迹延伸方向倾斜的配置方向上的所述结构体的高度或深度小于在所述轨迹的延伸方向上的所述结构体的高度或深度。

7.根据权利要求2所述的光学器件，

在同一轨迹内的所述结构体的配置节距P1大于相邻的两个轨迹之间的所述结构体的配置节距P2。

8.根据权利要求2所述的光学器件，

各所述结构体在所述基底的表面上形成六方点阵图案或准六方点阵图案，

当同一轨迹内的所述结构体的配置节距为P1、相邻的两个轨迹之间的所述结构体的配置节距为P2时，比率P1/P2满足关系1.00≤P1/P2≤1.1或1.00＜P1/P2≤1.1。

9.根据权利要求2所述的光学器件，

所述结构体在所述基底的表面上形成四方点阵图案或准四方点阵图案，

当同一轨迹内的所述结构体的配置节距为P1、相邻的两个轨迹之间的所述结构体的配置节距为P2时，比率P1/P2满足关系1.4＜P1/P2≤1.5。

10.一种具有防反射功能的光学器件的制备用母板的制造方法，所述方法包括以下步骤：

在圆柱状或圆筒状的母板的圆周面上形成抗蚀层；

一边旋转其上形成了所述抗蚀层的所述母板并且平行于所述圆柱状或圆筒状的母板的中心轴相对移动激光束的光点，一边间歇性地将激光束照射在所述抗蚀层上，以比可见光波长更小的节距形成潜像；

显影所述抗蚀层，在所述母板的表面上形成抗蚀图案；以及

通过实施以所述抗蚀图案作为掩模的蚀刻处理，在所述母板的表面上形成凹状或凸状的结构体，

在所述潜像的形成步骤中，所述潜像被配置为在所述母板的表面上形成多列轨迹，并形成准六方点阵图案，

当同一轨迹内的所述结构体的配置节距为P1、所述结构体在轨迹方向上的直径为2r时，所述直径2r与所述配置节距P1的比率(2r/P1)×100等于或高于85％。