[发明专利]光学器件及其制造方法和母板的制造方法

说明书

本申请是如下专利申请的分案申请：

发明名称：光学器件及其制造方法和母板的制造方法；申请日：2010年8月26日；申请号：201010265401.1。

相关申请的参考

本发明包含于2009年9月2日向日本专利局提交的日本优先权专利申请JP2009-203179的主题，将其全部内容结合于此，作为参考。

技术领域

本发明涉及光学器件及其制造方法、以及在光学器件中使用的母板的制造方法，具体而言，涉及具有在其上以等于或小于可见光波长的微小节距配置通过凸部或凹部所形成的多个结构体的表面的光学器件。

背景技术

通常，在使用由玻璃、塑料等构成的透明基板的一些光学器件中，执行表面处理，从而抑制光线的表面反射。作为这种类型的表面处理，存在在光学器件的表面上形成微小致密的凹凸(蛾眼)的处理(例如，见“Optical and Electro-Optical Engineering Contact”，Vol.43，No.11(2005)，p 630-637)。

通常，在周期性凹凸形状被配置在光学器件的表面上的情况下，当光透射通过凹凸形状时，发生衍射。因此，透射光的直线传播组分大量减少。但是，在凹凸形状的节距小于透射光的波长的情况下，不发生衍射。因此，例如，如随后所述，当凹凸形状形成为矩形形状时，对于相应于节距、深度等的单一波长的光能够获取有效的防反射效果。

作为通过使用电子束曝光所制备的蛾眼结构，披露了具有微小帐篷形状的蛾眼结构(节距：约为300nm；深度：约为400nm)(例如，见网上NTT Advanced Technology Corporation“Molding Die Master for Antireflection Bodies(Moth Eye)That Do Not Have Dependency on the Wavelength”，2008年2月27日检索，网址http://keytech.ntt-at.co.jp/nano/prd_0033.html)。根据这种蛾眼结构，能够获取具有等于或小于1％的反射率的高性能的防反射特性。

发明内容

但是，近来，为了改进诸如液晶显示装置的各种显示装置的可视性，期望实现更好的防反射特性。另外，在CCD(电荷耦合器件)图像传感器件、CMOS(互补金属氧化物半导体)图像传感器件、光电二极管(PD)等的封装件中，使用盖玻片。因此，也期望改进盖玻片的防反射特性。

期望提供一种具有优异的防反射特性的光学器件及其制造方法、及在该光学器件中使用的母板的制造方法。

根据本发明的一个实施方式，提供了一种具有防反射功能的光学器件。该光学器件包括：基底；以及多个结构体，由凸部或凹部构成，以等于或小于可见光波长的微小节距配置在基底的表面上。多个结构体被配置为在基底表面上形成多列轨迹，并形成准六方点阵图案、四方点阵图案或准四方点阵图案，并且结构体对基底表面的填充率等于或高于65％。

根据本发明的另一实施方式，提供了一种具有防反射功能的光学器件。该光学器件包括：基底；以及多个结构体，由凸部或凹部构成，以等于或小于可见光波长的微小节距配置在基底的表面上。多个结构体被配置为在基底表面上形成多列轨迹，并形成准六方点阵图案，并且当同一轨迹内的多个结构体的配置节距为P1并且结构体的底面在轨迹方向上的直径为2r时，直径2r与配置节距P1的比率((2r/P1)×100)等于或高于85％。

根据本发明的另一实施方式，提供了一种具有防反射功能的光学器件。该光学器件包括：基底；以及多个结构体，由凸部或凹部构成，以等于或小于可见光波长的微小节距配置在基底的表面上。

多个结构体被配置为在基底表面上形成多列轨迹，并形成四方点阵图案或准四方点阵图案，并且当同一轨迹内的多个结构体的配置节距为P1并且结构体的底面在轨迹方向上的直径为2r时，直径2r与配置节距P1的比率((2r/P1)×100)等于或高于90％。