[发明专利]起模销组合件及具有起模销组合件的衬底处理设备

说明书

本申请案涉及一种起模销组合件及一种具有所述起模销组合件的衬底处理设备。提供起模销组合件及衬底处理设备。所述起模销组合件包含：第一起模销，其至少一个部分支撑衬底的底部表面，所述第一起模销是可升高的；及第二起模销，其经配置以导引所述第一起模销，所述第二起模销通过衬底支撑件升高。

技术领域

本发明涉及一种起模销组合件，且更特定来说涉及一种能够防止起模销被损坏的起模销组合件及一种具有起模销组合件的衬底处理设备。

背景技术

一般来说，一种用于制造半导体装置或液晶显示装置的工艺包含：薄膜沉积工艺，其用于在晶片或玻璃衬底上沉积由电介质材料形成的薄膜；光学光刻工艺，其用于通过使用光敏材料暴露薄膜的选定区；蚀刻工艺，其移除选定区内的薄膜，借此形成所要图案；及清洁工艺，其用于移除剩余物。此处，上文所描述的工艺必须重复执行。而且，可在反应室内执行所述工艺中的每一者，其中形成最佳环境以执行对应工艺。

用于支撑衬底的衬底支撑件及用于注入工艺气体的气体注入单元可在反应室内经安置以彼此面对。此处，多个通孔垂直通过衬底支撑件。起模销耦合到通孔中的每一者。也就是说，起模销从衬底支撑件的下侧插入。头部安置于起模销的上部端上且由安置于衬底支撑件的顶部表面上的钩状突出部支撑。起模销可用于将衬底装载于衬底支撑件上或从衬底支撑件卸载衬底。

然而，当衬底支撑件下降时，衬底支撑件可在起模销的下部部分接触反应室的底部表面之后进一步下降预定距离。此处，起模销可倾斜，且因此被在起模销接触通孔时发生的过度力损坏。当起模销被损坏时，恰当地支撑衬底可是困难的。结果是，在等离子体处理装备的情形中，等离子体可是不稳定的。另外，当起模销被损坏时，必须停止所述装备的操作以用于替换受损坏起模销。因此，生产率可能降低，而且坐落于起模销上的衬底可被损坏或折断。而且，当衬底被损坏时，衬底处理设备的其他组件可相继地被等离子体损坏。

为减小起模销的损坏，持久性必须得以改良。结果是，起模销导引件中的结构固定于衬底支撑件的通孔内，且已提议起模销沿着起模销导引件的内侧升高。在登记号为10-1218570的韩国专利中揭示此结构。而且，其为其中最小化起模销导引件与起模销之间的接触区或通过使用直接摩擦减小部件(例如轴承)减小起模销导引件与起模销之间的摩擦力的结构。

发明内容

本发明提供一种能够防止起模销被损坏的起模销组合件及一种使用起模销组合件的衬底处理设备。

本发明还提供一种环绕且保护从衬底支撑件向下突出的起模销中的至少一者以防止所述起模销被损坏的起模销组合件及一种具有起模销组合件的衬底处理设备。

根据示范性实施例，一种起模销组合件包含：第一起模销，其至少一个部分支撑衬底的底部表面，所述第一起模销是可升高的；及第二起模销，其经配置以导引所述第一起模销，所述第二起模销通过衬底支撑件升高。

其中所述第二起模销导引所述第一起模销的所述升高的区段可大于所述衬底支撑件的厚度。

根据另一示范性实施例，一种起模销组合件包含：第一起模销，其至少一个部分支撑衬底的底部表面，所述第一起模销是可升高的；及第二起模销，其经配置以在所述第一起模销升高时容纳所述第一起模销的一部分，所述第二起模销可相对于衬底支撑件升高。

其中所述第二起模销导引所述第一起模销的所述升高的区段可大于所述衬底支撑件的厚度。

在与所述第二起模销比较时所述第一起模销可首先从所述衬底支撑件的顶部表面突出。

所述第一起模销及所述第二起模销可相继地从所述衬底支撑件的顶部表面突出。

可同时执行所述第一起模销相对于所述衬底支撑件的所述上升及所述第二起模销相对于所述衬底支撑件的所述下降。

可同时执行所述第一起模销相对于所述衬底支撑件的所述下降及所述第二起模销相对于所述衬底支撑件的所述上升。