[发明专利]一种抗划伤型光学扩散膜及其制备方法

权利要求书

1.一种抗划伤型光学扩散膜，包括有基材层(1)，所述的基材层(1)的上表面涂覆形光扩散层(2)，该基材层(1)的下表面涂覆形成防粘接层(3)，其特征是：所述的光扩散层(2)包括树脂成膜物(4)、扩散粒子、交联剂和溶剂，所述的扩散粒子包括有机粒子和无机粒子(24)，所述的有机粒子由粒径范围在10μm至40μm的大粒子(21)，粒径范围在5μm至15μm的中粒子(22)和粒径范围在1μm至5μm的小粒子(23)组成，所述的无机粒子(24)的粒径范围在0.1μm至1μm，所述的大粒子(21)为PBMA粒子或者PIBMA粒子，所述的大粒子(21)和中粒子(22)的粒径比控制在5:1至3:1，质量比控制在1:6至1:3，所述的大粒子(21)和小粒子(23)的粒径比控制在15:1至10:1，质量比控制在1:1至1:3，所述的有机粒子和无机粒子(24)的粒径比控制在130:1至10:1，质量比控制在50：1至5：1；所述的防粘接层(3)包括防粘接层有机粒子(31)、树脂成膜物(4)、交联剂和溶剂。

2.根据权利要求1所述的一种抗划伤型光学扩散膜，其特征是:所述的基材层(1)由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯-1，4-环己烷二甲醇酯、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物中的一种制成。

3.根据权利要求2所述的一种抗划伤型光学扩散膜，其特征是:所述的树脂成膜物(4)为丙烯酸树脂、聚氨酯、聚醋酸乙烯酯、环氧树脂中的一种或者两种的混合。

4.根据权利要求3所述的一种抗划伤型光学扩散膜，其特征是:所述的树脂成膜物(4)的折射率为1.35至1.61。

5.根据权利要求4所述的一种抗划伤型光学扩散膜，其特征是:所述的中粒子(22)、小粒子(23)为PMMA粒子、PS粒子、有机硅粒子中一种或者多种的混合。

6.根据权利要求5所述的一种抗划伤型光学扩散膜，其特征是: 所述的无机粒子(24)为二氧化钛、碳酸钙、硫酸钡中的一种或者多种的混合。

7.根据权利要求6所述的一种抗划伤型光学扩散膜，其特征是: 所述的防粘接层有机粒子(31)的粒径控制为2μm至15μm，所述的防粘接层有机粒子(31)为PMMA粒子。

8.根据权利要求7所述的一种抗划伤型光学扩散膜，其特征是:所述的交联剂为脂肪类二异氰酸酯交联剂。

9.根据权利要求8所述的一种抗划伤型光学扩散膜，其特征是:所述的光扩散层(2)的厚度为大粒子(21)粒径的五分之二至五分之四。

10.根据权利要求1所述的一种抗划伤型光学扩散膜的制备方法，其特征是：包括以下步骤：

步骤一、制备基材层(1)：由基材层原材料制备基材层(1)备用；

步骤二、制备光扩散层(2)：将扩散粒子均匀分散在树脂成膜物(4)的稀溶液中，然后用溶剂稀释制得扩散液，再用涂布机将扩散液涂布到基材层(1)的上表面，固化、干燥制得光扩散层(2)；

步骤三、制备防粘接层(3)：将防粘接层有机粒子(31)均匀分散在树脂成膜物(4)的稀溶液中，然后用溶剂稀释制得涂布液，再用涂布机将涂布液涂布到已经制得光扩散层(2)的基材层(1)的下表面，固化、干燥制得防粘接层(3)，完成抗划伤型光学扩散膜的制备。