[发明专利]一种抗划伤型光学扩散膜及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及光学扩散膜制备技术领域，尤其是一种抗划伤型光学扩散膜及其制备方法。

背景技术

光学扩散膜（简称扩散膜）作为一种新材料、新技术广泛应用于液晶显示器、广告背景灯、照明灯箱等领域。尤其是在液晶显示装置中，扩散膜是背光模组中的关键部件。光学扩散膜的主要作用是改变光线角度，将背光灯所发出的光线雾化，为液晶面板提供一个均匀的面光源。

不论是现在应用较多的LED背光源还是传统的CCFL背光源，其所发出的光或为点光源或为线光源，都不是面光源。但经过背光模组(BLU)用扩散膜，能够将其分布成一个均匀的面光源。光线经过扩散层时，通过在两种折射率不同的介质中不断发生的折射、反射等光学现象，从而得到光学扩散的结果。

一般的光学扩散膜包含基材、正面扩散层和背面防粘接层。扩散层中包含扩散剂及树脂成膜物。防粘接层包含防粘接粒子和树脂成膜物。通常，扩散层涂布液的调制是在树脂中加入扩散粒子，再涂覆在透明基材一面形成扩散膜。扩散粒子一般都是有机粒子(聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)粒子、聚苯乙烯(PS)粒子、有机硅粒子等)。

但是，已有的光学扩散膜由于遮盖性较差并不能很好的满足背光模组的要求，尤其在小尺寸背光膜组中并不能很好的遮盖住背光源，并起到良好的雾化作用。同时，现有的光学扩散膜在应用到小尺寸背光模组时，容易暴露背光源的一些缺陷，这也进一步加大了导光板和背光源的技术要求。如CN102759761所提到的扩散膜虽然能达到较好的遮盖性但其工艺为双层光扩散层，工艺较为复杂，整个光学扩散膜相对厚度较大。US8217106B2、US8158035中所提到的扩散膜的基材填充无机粒子来获得遮盖性和其他光学性能。由于填充法工艺复杂粒子设备投入高，得到的产品透光率较低也并不能很好的适应现有的需求，CN102096128、CN102096127中所提到的扩散膜亦是采用的透明树脂中填充扩散粒子多层复合的制备方法，制备麻烦。

另外，由于现有扩散膜扩散层中有机扩散粒子都为PMMA、PS和有机硅粒子，在与棱镜膜等器件接触时无法提供一个软性的接触面导致棱镜膜等器件容易划伤，因此现有光学扩散膜还需做出相应的改进。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是针对上述现有技术现状，而提供结构简单、制备简便的一种抗划伤型光学扩散膜，本光学扩散膜能够在保证其他光学性能的同时尽可能提高光学膜的遮盖性，并提供良好的耐划伤性。

本发明解决上述技术问题所采用的技术方案为：

一种抗划伤型光学扩散膜，包括有基材层，基材层的上表面涂覆形光扩散层，该基材层的下表面涂覆形成防粘接层，其中，光扩散层包括树脂成膜物、扩散粒子、交联剂和溶剂，扩散粒子包括有机粒子和无机粒子，有机粒子由粒径范围在10μm至40μm的大粒子，粒径范围在5μm至15μm的中粒子和粒径范围在1μm至5μm的小粒子组成，无机粒子的粒径范围在0.1μm至1μm，大粒子为PBMA粒子或者PIBMA粒子，大粒子和中粒子的粒径比控制在5:1至3:1，质量比控制在1:6至1:3，大粒子和小粒子的粒径比控制在15:1至10:1，质量比控制在1:1至1:3，有机粒子和无机粒子的粒径比控制在130:1至10:1，质量比控制在50：1至5：1；防粘接层包括防粘接层有机粒子、树脂成膜物、交联剂和溶剂。

为优化上述技术方案，采取的措施还包括：

上述的基材层由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯-1，4-环己烷二甲醇酯、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物中的一种制成。

上述的树脂成膜物为丙烯酸树脂、聚氨酯、聚醋酸乙烯酯、环氧树脂中的一种或者两种的混合。

上述的树脂成膜物的折射率为1.35至1.61。

上述的中粒子、小粒子为PMMA粒子、PS粒子、有机硅粒子中一种或者多种的混合。

上述的无机粒子为二氧化钛、碳酸钙、硫酸钡中的一种或者多种的混合。

上述的防粘接层有机粒子的粒径控制为2μm至15μm，防粘接层有机粒子为PMMA粒子。

上述的交联剂为脂肪类二异氰酸酯交联剂。

上述的光扩散层的厚度为大粒子粒径的五分之二至五分之四。

一种抗划伤型光学扩散膜的制备方法，包括以下步骤：

步骤一、制备基材层：由基材层原材料制备基材层备用；

步骤二、制备光扩散层：将扩散粒子均匀分散在树脂成膜物的稀溶液中，然后用溶剂稀释制得扩散液，再用涂布机将扩散液涂布到基材层的上表面，固化、干燥制得光扩散层；