[发明专利]感光性树脂组合物、感光性元件、喷砂用掩模材料及被处理物的表面加工方法在审
申请号: | 201410814596.9 | 申请日: | 2014-12-24 |
公开(公告)号: | CN104749885A | 公开(公告)日: | 2015-07-01 |
发明(设计)人: | 小泽恭子;吉田哲也;板垣秀一 | 申请(专利权)人: | 日立化成株式会社 |
主分类号: | G03F7/033 | 分类号: | G03F7/033;G03F7/004;G03F7/00 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 钟晶;於毓桢 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 感光性 树脂 组合 元件 喷砂 用掩模 材料 处理 表面 加工 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种感光性树脂组合物、以及使用了该感光性树脂组合物的感光性元件、喷砂用掩模材料、和被处理物的表面加工方法。
背景技术
以前,作为选择性切削玻璃、陶瓷等被处理物的规定位置的方法,已知:在被处理物上设置包含感光性树脂组合物的感光层作为掩模材料,通过对上述感光层进行图案化而形成抗蚀剂图案(掩模部)后,喷射研磨剂,对非掩模部进行选择性切削(即进行喷砂处理)的方法。
喷砂处理用掩模材料用途中使用的感光性树脂组合物,例如制成在支撑体上设置了包含感光性树脂组合物的感光层的感光性元件而使用。作为感光性树脂组合物,使用包含碱溶性树脂、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯和光聚合引发剂的组成等。作为碱溶性树脂,例如提出了含羧基纤维素、含羧基丙烯酸树脂等(例如,参照专利文献1和2)。
关于这样的以前的感光性树脂组合物,存在如下问题:在制造为感光性元件的情况下,由于感光性树脂组合物的粘性而难以从支撑体将感光层剥离。另外,为了提高喷砂耐性(下面,有时仅称为“喷砂耐性”),认为必须降低固化后的被膜即喷砂处理用掩模的弹性模量,为此,已知尽可能增多氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的配合量。但是,如果增多氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的配合量,则由于在固化前的阶段感光层的粘着性会增加,因此有难以从支撑体将感光层剥离的倾向。其结果,有时难以将感光层转印到被处理物上。
为了保持喷砂耐性且容易将感光层转印到被处理物上,例如提出了如下方案等:设置包含聚乙烯醇或者部分皂化聚乙酸乙烯酯的水溶性树脂层,在聚乙烯醇或者部分皂化聚乙酸乙烯酯中添加了乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等的水溶性树脂层作为剥离层;设置包含碱溶性纤维素衍生物的剥离层(例如,参照专利文献3或者4)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利第3449572号公报
专利文献2:日本专利第3846958号公报
专利文献3:日本特开平6-161098号公报
专利文献4:日本特开2012-27357号公报
发明内容
发明要解决的问题
但是,专利文献1~4等所记载的以前的感光性树脂组合物,与玻璃基板等基材的密合性不充分,有在该基材上难以形成图案这样的问题。在为了提高密合性而使用密合助剂等的情况下,碱显影性降低,有难以形成图案的倾向。
因此,本发明的目的在于提供一种即使未设置剥离层也能够将支撑体从感光层容易地剥离,能够在玻璃基板等基材上形成密合性和分辨率优异的抗蚀剂图案的感光性树脂组合物、使用了其的感光性元件、被处理物的表面加工方法、喷砂用掩模材料。
用于解决问题的方法
本发明提供一种感光性树脂组合物,其含有(A)具有羧基的粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂、(D)含有磷的增塑剂和(E)硅烷化合物,上述(B)具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。
另外,(D)成分的含有磷的增塑剂优选包含下述通式(I)所表示的化合物。
[化1]
这里,通式(I)中,R3表示氢原子或者碳原子数1~3的烷基,R4表示亚苯基或者下述通式(II)所表示的2价基团。
[化2]
这里,通式(II)中,R5表示氢原子或者碳原子数1~3的烷基。
作为上述(A)成分的具有羧基的粘合剂聚合物的聚合性单体,优选含有苯乙烯或者苯乙烯衍生物。
上述(A)成分的具有羧基的粘合剂聚合物的酸值优选为50~200mgKOH/g。
上述(A)成分的具有羧基的粘合剂聚合物的玻璃化温度(Tg)优选为30~100℃。
上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物的重均分子量优选为2000~45000。
上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物优选具有2个乙烯性不饱和基团。
上述(E)成分的硅烷化合物优选包含具有巯基的硅烷化合物。
上述(E)成分的硅烷化合物优选包含下述通式(III)所表示的化合物。
[化3]
这里,通式(III)中,R表示碳原子数1~6的亚烷基,A表示烷基,B表示烷氧基、氯基、烷氧基烷氧基、乙酰氧基或者烯氧基中的任一种,n表示0~2的整数。
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