[发明专利]自动分析装置有效

专利信息
申请号: 201410818430.4 申请日: 2010-07-05
公开(公告)号: CN104535536B 公开(公告)日: 2017-08-25
发明(设计)人: 足立作一郎;前岛宗郎;山崎功夫;三村智宪 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: G01N21/49 分类号: G01N21/49;G01N21/77;G01N21/01;G01N35/02
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 张敬强,严星铁
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 自动 分析 装置
【权利要求书】:

1.一种自动分析装置,其特征在于,具有:

反应盘,其用于在圆周上保持容纳有由样品和试剂混合而成的反应液的多个反应室,并反复旋转和停止;

透过光测量部,其具备第一光源和第一透过光受光器,该第一透过光受光器接受来自上述第一光源的照射光透过上述反应室中的反应液后的透过光;以及

散射光测量部,其具备第二光源和散射光受光器,该散射光受光器接受由来自上述第二光源的照射光照射到上述反应室中的反应液产生的散射光,

上述散射光测量部在与上述反应盘的旋转方向垂直的面内具有受光角度不同的多个散射光受光器,

上述多个散射光受光器相对于来自上述第二光源的照射光的光轴配置于下方或上方,

其中,作为一个反应室的散射光的测量时间的积分时间为2msec以上。

2.一种自动分析装置,其特征在于,具有:

反应盘,其用于在圆周上保持容纳有由样品和试剂混合而成的反应液的多个反应室,并反复旋转和停止;

透过光测量部,其具备第一光源和第一透过光受光器,该第一透过光受光器接受来自上述第一光源的照射光透过上述反应室中的反应液后的透过光;以及

散射光测量部,其具备第二光源和多个散射光受光器,该多个散射光受光器接受由来自上述第二光源的照射光照射到上述反应室中的反应液产生的散射光,

上述散射光测量部在相对于上述反应盘的旋转面的上下方向具有上述多个散射光受光器,接受分别不同的散射角度的散射光,

其中,作为一个反应室的散射光的测量时间的积分时间为2msec以上。

3.根据权利要求1或2所述的自动分析装置,其特征在于,

上述多个散射光受光器具有相对于来自上述第二光源的照射光的光轴配置于上方的第一散射光受光器和配置于下方的第二散射光受光器。

4.根据权利要求3所述的自动分析装置,其特征在于,

上述第一散射光受光器与上述第二散射光受光器相对于来自上述第二光源的照射光的光轴以相同角度配置。

5.根据权利要求1或2所述的自动分析装置,其特征在于,

从与上述反应盘的旋转方向垂直的方向观察时,由上述多个散射光受光器产生的散射光受光光轴不同。

6.根据权利要求1或2所述的自动分析装置,其特征在于,

上述散射光测量部具有接受来自上述第二光源的照射光透过上述反应室中的反应液后的透过光的第二透过光受光器。

7.根据权利要求1或2所述的自动分析装置,其特征在于,

上述透过光测量部与上述散射光测量部在上述反应盘旋转且上述反应室通过上述透过光测量部与上述散射光测量部时进行测定。

8.一种自动分析装置,其特征在于,具有:

反应盘,其用于在圆周上保持容纳有由样品和试剂混合而成的反应液的反应室,并反复旋转和停止;

光源;

多个光学系统,其分别以不同的角度接受由来自上述光源的照射光照射到上述反应室中的反应液产生的散射光;以及

散射光受光器,其接受从上述多个光学系统导出的光,

上述多个光学系统配置在与上述反应盘的旋转方向垂直的面内,

上述多个光学系统相对于来自上述光源的照射光的光轴配置于下方或上方,

其中,作为一个反应室的散射光的测量时间的积分时间为2msec以上。

9.根据权利要求8所述的自动分析装置,其特征在于,

上述多个光学系统是光纤或透镜。

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