[发明专利]一种线栅偏振片及其制作方法、显示装置在审
申请号: | 201410843630.5 | 申请日: | 2014-12-30 |
公开(公告)号: | CN104459865A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 李颖祎;武延兵;季春燕 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 偏振 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种线栅偏振片的制作方法,其特征在于,包括:
在衬底基板的表面涂覆聚合物单体;
对对应预设位置处的所述聚合物单体进行固化处理;
在所述衬底基板的表面形成间隔设置的树脂凸起的图案;
在形成有所述树脂凸起的基板表面形成金属层;
通过一次构图工艺,在所述衬底基板的表面形成由间隔设置的金属线构成的线栅图案;
其中,每一条所述金属线覆盖一个所述树脂凸起的至少一个起偏表面,所述起偏表面为所述树脂凸起的上表面或,与线栅排列方向平行的侧面。
2.根据权利要求1所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,在所述在衬底基板的表面涂覆聚合物单体的步骤之后,形成所述树脂凸起的步骤包括:
将第一掩膜版设置于所述聚合物单体的表面,对所述聚合物单体对应所述第一掩膜版透光区域的位置进行曝光;
将对应所述第一掩膜版遮光区域的所述聚合物单体去除。
3.根据权利要求1所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,在所述在衬底基板的表面涂覆聚合物单体的步骤之后,形成所述树脂凸起的步骤包括:
将压印模压印至所述聚合物单体中,并与所述衬底基板相接处;
对所述压印模中的所述聚合物单体进行曝光;
将所述压印模与曝光后的所述聚合物单体以及所述衬底基板分离。
4.根据权利要求3所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,
所述压印模采用透明材料制成。
5.根据权利要求2或3所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,所述通过构图工艺,在所述衬底基板的表面形成由间隔设置的金属线构成的线栅图案;其中,每一条所述金属线包裹一个所述树脂凸起包括:
在所述金属层的表面涂覆光刻胶层;利用第二掩膜版,通过一次掩膜曝光、显影工艺,在所述金属层的表面形成对应待形成的所述金属线图案的光刻胶保留区域,以及对应所述金属层表面其余区域的光刻胶去除区域;其中,所述第二掩膜版不透光区域的宽度大于所述第一掩膜版透光区域的宽度;或,所述第二掩膜版不透光区域的宽度大于所述压印模凹槽的宽度;
对对应所述光刻胶去除区域的所述金属层进行刻蚀;
将所述光刻胶保留区域的所述光刻胶层剥离,形成所述金属线的图案。
6.根据权利要求1所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,构成所述聚合物单体的材料包括丙烯酸系单体;构成所述金属层的材料包括铝单质、铜单质以及铁单质中的至少一种。
7.根据权利要求1所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,
所述金属线的周期小于等于100nm。
8.根据权利要求1所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,
所述金属线的宽度小于等于50nm。
9.根据权利要求1所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,
所述聚合物单体与所述金属层的厚度之和为20nm~100nm。
10.根据权利要求1所述的线栅偏振片的制作方法,其特征在于,
构成所述衬底基板的材料包括玻璃、石英石的至少一种,或聚对苯二甲酸乙二醇酯、三醋酸纤维素中的至少一种。
11.一种线栅偏振片,其特征在于,包括:
衬底基板;
位于所述衬底基板表面的间隔设置的树脂凸起;
位于所述衬底基板表面的间隔设置的金属线;
其中,每一条所述金属线覆盖一个所述树脂凸起的至少一个起偏表面,所述起偏表面为所述树脂凸起的上表面或,与线栅排列方向平行的侧面。
12.根据权利要求11所述的线栅偏振片,其特征在于,构成所述树脂凸起的材料包括丙烯酸系聚合物;构成所述金属线的材料包括铝单质、铜单质以及铁单质中的至少一种。
13.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求11或12所述的线栅偏振片。
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