[发明专利]一种新型特效硅片清洗液在审
| 申请号： | 201410846914.X | 申请日： | 2015-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN104498209A | 公开（公告）日： | 2015-07-29 |
| 发明（设计）人： | 聂金根 | 申请（专利权）人： | 镇江市港南电子有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/831 | 分类号： | C11D1/831;C11D3/60 |
| 代理公司： | 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 | 代理人： | 季萍 |
| 地址： | 212132 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 新型 特效 硅片 清洗 | ||
【权利要求书】：
1.一种新型特效硅片清洗液，其特征在于，由下列重量份的原料组分构成：
氟化铵 7-10份
三羟乙基胺 7-12份
阴离子活性剂 5-8份
非离子表面活性剂 3-5份
盐酸 3-4份
葡萄糖酸钠 10—15份
助洗剂 15—17份。
2.如权利要求1所述的一种新型特效硅片清洗液，其特征在于，优选的 ，由下列重量份的原料组分构成：
氟化铵 9份
三羟乙基胺 10份
阴离子活性剂 6份
非离子表面活性剂 4份
盐酸 3份
葡萄糖酸钠 12份
助洗剂 15份。
3.如权利要求1所述的一种新型特效硅片清洗液，其特征在于，所述阴离子活性剂为十二烷基磺酸钠和十二烷基硫酸钠按1-1.2:1.4-1.5比例混合而成。
4.如权利要求1所述的一种新型特效硅片清洗液，其特征在于，所述非离子活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按1-1.7:1.3-1.5比例混合而成。
5.如权利要求1所述的一种新型特效硅片清洗液，其特征在于，所述助洗剂为氢氧化钠。
6.如权利要求1所述的一种新型特效硅片清洗液，其特征在于，所述的盐酸为工业盐酸。
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