[发明专利]一种新型特效硅片清洗液

说明书

技术领域

本发明涉及一种清洗液，特别涉及一种新型特效硅片清洗液。

背景技术

清洗最为硅片的一个生产工序之一，清洗的好坏程度对硅片的使用性能有着很大的影响。清洗的主要目的是为了清洗掉切割过程中产生的沙粒，残留的切削磨料、金属离子及指纹等，使硅片表面达到无腐蚀、无氧化、无残留等技术指标。传统的硅片清洗，由于各个方法不一样，采用的清洗液也不一样。现有技术中的清洗液清洗效果较差，对于硅片表面的污渍难以做到更好的去除，降低了硅片的使用效果。

发明内容

      针对上述问题，本发明提出了一种新型特效硅片清洗液。

为解决以上技术问题，本发明提供的技术方案是:

一种新型特效硅片清洗液，其特征在于，由下列重量份的原料组分构成：

氟化铵     7-10份

三羟乙基胺   7-12份

阴离子活性剂     5-8份

非离子表面活性剂  3-5份

盐酸  3-4份

葡萄糖酸钠  10—15份

助洗剂   15—17份。

上述的一种新型特效硅片清洗液，其中，所述阴离子活性剂为十二烷基磺酸钠和十二烷基硫酸钠按1-1.2:1.4-1.5比例混合而成。

上述的一种新型特效硅片清洗液，其中，所述非离子活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按1-1.7:1.3-1.5比例混合而成。

上述的一种新型特效硅片清洗液，其中，所述助洗剂为氢氧化钠。

上述的一种新型特效硅片清洗液，其中，所述的盐酸为工业盐酸。

一种新型特效硅片清洗液，其中，优选的 ，由下列重量份的原料组分构成：

氟化铵     9份

三羟乙基胺   10份

阴离子活性剂     6份

非离子表面活性剂  4份

盐酸  3份

葡萄糖酸钠  12份

助洗剂   15份。

上述的一种新型特效硅片清洗液，其中，所述阴离子活性剂为十二烷基磺酸钠和十二烷基硫酸钠按1.2:1.45比例混合而成。

上述的一种新型特效硅片清洗液，其中，所述非离子活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按1.5:1.4比例混合而成。

上述的一种新型特效硅片清洗液，其中，所述助洗剂为氢氧化钠。

上述的一种新型特效硅片清洗液，其中，所述的盐酸为工业盐酸。

本发明的有益效果为：

本发明提供的一种新型特效硅片清洗液，配方简单易于操作，在清洗后，会在硅片表面生成一层保护膜，可提高硅片的抗污能力，同时去污力强，硅片的清洗速度快，提高了硅片清洗的清洁率，并且对环境无污染。

具体实施方式

实施例一

一种新型特效硅片清洗液，其特征在于，由下列重量份的原料组分构成：

氟化铵     9份

三羟乙基胺   10份

阴离子活性剂     6份

非离子表面活性剂  4份

盐酸  3份

葡萄糖酸钠  12份

助洗剂   15份。

其中，所述阴离子活性剂为十二烷基磺酸钠和十二烷基硫酸钠按1.2:1.45比例混合而成，所述非离子活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按1.5:1.4比例混合而成，所述助洗剂为氢氧化钠，所述的盐酸为工业盐酸。

实施例二

一种新型特效硅片清洗液，其特征在于，由下列重量份的原料组分构成：

氟化铵     7份

三羟乙基胺   8份

阴离子活性剂     6份

非离子表面活性剂  3份

盐酸  4份

葡萄糖酸钠  15份

助洗剂   16份。

其中，所述阴离子活性剂为十二烷基磺酸钠和十二烷基硫酸钠按1.1:1.4比例混合而成，所述非离子活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按1.7:1.3比例混合而成，所述助洗剂为氢氧化钠，所述的盐酸为工业盐酸。

实施例三

一种新型特效硅片清洗液，其特征在于，由下列重量份的原料组分构成：

氟化铵     9

三羟乙基胺   11

阴离子活性剂     7

非离子表面活性剂  5份

盐酸  3份

葡萄糖酸钠  11份

助洗剂   17份。