[发明专利]一种降低酸性变体含量的CHO细胞培养工艺在审
申请号: | 201410856248.8 | 申请日: | 2014-12-31 |
公开(公告)号: | CN104560882A | 公开(公告)日: | 2015-04-29 |
发明(设计)人: | 黎美香;鄢成伟;杨彬;孙文正;李文佳;倪健;苏彦景;柯军 | 申请(专利权)人: | 广东东阳光药业有限公司 |
主分类号: | C12N5/10 | 分类号: | C12N5/10 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋;杨晞 |
地址: | 523808 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 降低 酸性 变体 含量 cho 细胞培养 工艺 | ||
1.一种CHO表达系统的细胞培养工艺,包括如下步骤:
(1)添加基础培养基总体积的40%-60%于培养反应器中;
(2)在培养的第1天和第2天分别补加基础培养基总体积20%-30%;
(3)在培养的第3天加入当天培养体积7.5%-12.5%的CHO CD Efficient FeedTMA和CHO CD Efficient FeedTMB的混合物;
(4)第5天加入当天培养体积10-15%的CHO CD Efficient FeedTMA、CHO CD Efficient FeedTMB和CHO CD Efficient FeedTMC的混合物;
(5)在培养的第7天加入当天培养体积2-4.5%的Acti CHO Feed A和当天培养体积0.2-0.45%的Acti CHO Feed B;
(6)在培养的第9天加入当天培养体积1.5-4%的Acti CHO Feed A和当天培养体积0.15-0.4%的Acti CHO Feed B;
(7)在培养的第11天收获目的蛋白。
2.根据权利要求1所述的培养工艺,其特征在于,所述CHO表达系统为基于重组人肿瘤坏死因子受体-Fc融合蛋白的CHO表达系统。
3.根据权利要求1所述的培养工艺,其特征在于,所述基础培养基为CD FortiCHO、TFS-RDMP-1、TFS-RDMP-9或Hycell CHO。
4.根据权利要求1所述的培养工艺,其特征在于,步骤(1)中基础培养基为CD FortiCHO。
5.根据权利要求1所述的培养工艺,其特征在于,步骤(2)中第1天和第2天分别补加的基础培养基为Hycell CHO。
6.根据权利要求1所述的培养工艺,其特征在于,步骤(3)中CHO CD Efficient FeedTMA和CHO CD Efficient FeedTMB的体积比为1:1。
7.根据权利要求1所述的培养工艺,其特征在于,步骤(4)中CHO CD Efficient FeedTMA、CHO CD Efficient FeedTMB和CHO CD Efficient FeedTMC的体积比为1:1:1。
8.根据权利要求1所述的培养工艺,其特征在于,包括如下步骤:
(1)添加基础培养基总体积的50%于培养反应器中;
(2)在培养的第1天和第2天分别补加基础培养基总体积的25%;
(3)在培养的第3天加入当天培养体积10%的CHO CD Efficient FeedTMA和CHO CD Efficient FeedTMB的混合物;
(4)第5天加入当天培养体积12.5%的CHO CD Efficient FeedTMA、CHO CD Efficient FeedTMB和CHO CD Efficient FeedTMC的混合物;
(5)在培养的第7天加入当天培养体积3%的Acti CHO Feed A和当天培养体积0.3%的Acti CHO Feed B;
(6)在培养的第9天加入当天培养体积2%的Acti CHO Feed A和当天培养体积0.2%的Acti CHO Feed B;
(7)在培养的第11天收获目的蛋白。
9.根据权利要求1所述的培养工艺,其特征在于,在37℃培养的第5天转入33℃进行培养。
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