[实用新型]一种晶圆清洗甩干机的移动门

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体工艺设备领域，特别是涉及一种晶圆清洗甩干机的移动门。

背景技术

在集成电路加工工艺中，对晶圆进行清洗是其中比较重要的一个步骤流程，这是因为在化学机械抛光之后会有一些残留或微尘落在晶圆表面，如果此种尘粒缺陷（P/D，ParticleDefect）不及时去除，会严重影响良率。通过刷洗的方式可以将此种尘粒缺陷去除，目前，通常使用的刷洗方式有以下5种：去离子水冲洗、毛刷刷洗、高压水刷洗、毛刷加高压水刷洗和芯片双面刷洗。

在化学机械抛光以后，现有技术中使用晶圆清洗甩干机（SRD，Spin Rinse Dryer）对晶圆进行去离子水冲洗，晶圆清洗甩干机可以将潮湿的晶圆通过旋转及干燥使晶圆表面干燥。而在现有的生产工艺过程中，经过晶圆清洗甩干机旋转干燥以后，晶圆表面10上仍然有水痕11（如图1所示），由图1可以看到，晶圆表面存在一道明显的水痕11。这是由于晶圆在进入晶圆清洗甩干机的时候，晶圆表面的水会掉落在晶圆清洗甩干机的移动门上，而现有晶圆清洗甩干机的移动门的材料为非亲水性材料，且表面光滑，晶圆掉落到该移动门上后就会在移动门表面掉落处形成水滴，在晶圆甩干取出时，由于开关晶圆清洗甩干机的移动门时会产生震动，这就会使得之前掉落在移动门上的水滴重新掉落在晶圆的表面产生水痕，使得晶圆经过化学机械抛光和旋转及干燥后并没能达到干燥的要求。此处晶圆表面水痕缺陷的存在，将会大大影响产品的良率。

因此，提供一种改进型的晶圆清洗旋干机的移动门非常必要。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种晶圆清洗甩干机的移动门，用于解决现有技术中由于晶圆清洗甩干机的移动门的材料为非亲水性材料，且表面光滑，而产生的晶圆在进入晶圆清洗甩干机的时候，晶圆表面的水会掉落在晶圆清洗甩干机的移动门上而在移动门表面形成水滴，之后在晶圆甩干取出时，在开关晶圆清洗甩干机的移动门时产生震动，使得之前掉落在移动门上的水滴重新掉落在晶圆的表面而产生水痕，进而影响产品良率的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种晶圆清洗甩干机的移动门，所述晶圆清洗甩干机的移动门至少包括：

位于晶圆清洗甩干机外壳顶部、可以滑动打开的外部移动门；

位于晶圆清洗甩干机腔体顶部、用于控制腔体开关的内部移动门；所述内部移动门由内外两层结构构成，其中内部移动门外层结构固定在腔体一侧的内壁上，内部移动门内层结构可以左右滑动；所述内部移动门内层结构的内外表面均纵向均匀地分布有沟槽。

作为本实用新型的晶圆清洗甩干机的移动门的一种优选方案，所述内部移动门内层结构的两端设置有进水口。

作为本实用新型的晶圆清洗甩干机的移动门的一种优选方案，所述内部移动门内层结构的外表面设有沿其两侧边缘的凸出区。

作为本实用新型的晶圆清洗甩干机的移动门的一种优选方案，所述内部移动门内外两层结构的材料均为亲水材料。

作为本实用新型的晶圆清洗甩干机的移动门的一种优选方案，所述内部移动门内外两层结构的材料均为亲水石英。

作为本实用新型的晶圆清洗甩干机的移动门的一种优选方案，所述内部移动门内外两层结构的表面均为颗粒喷涂面。

作为本实用新型的晶圆清洗甩干机的移动门的一种优选方案，所述内部移动门内外两层结构的形状均为弧形。

作为本实用新型的晶圆清洗甩干机的移动门的一种优选方案，所述外部移动门的表面为颗粒喷涂面。

作为本实用新型的晶圆清洗甩干机的移动门的一种优选方案，所述外部移动门的材料为亲水材料。

作为本实用新型的晶圆清洗甩干机的移动门的一种优选方案，所述外部移动门的材料为亲水石英。

如上所述，本实用新型的晶圆清洗甩干机的移动门，具有以下有益效果：将晶圆清洗甩干机的内外部移动门的材料均使用亲水材料，这种亲水材料可以让去离子水在材料表面铺展开，而不是停留在掉落处形成水滴，这就降低了在该门做开关动作时水掉落到晶圆表面的可能；将晶圆清洗甩干机的内外部移动门的表面均设置成颗粒喷涂面，可以大大增加已是亲水表面的亲水性；将晶圆清洗甩干机内部移动门的内层结构设计为带沟槽的弧形，同时在内部移动门内层结构的两端设置有进水口，可以让内层结构表面的水通过沟槽流到进水口，顺利滑落到内部容器中，避免了水停留在内层结构表面，在内部移动门做开关动作时导致水掉落在晶圆表面；将内部移动门内层结构的外表面设有沿其两侧边缘的凸出区，避免了水流过内层结构的外表面的边缘而掉落在晶圆的表面。