[实用新型]用于清洗晶圆的盘式载具

权利要求书

1.一种用于清洗晶圆的盘式载具，用以供一晶圆装配，该晶圆贴附有一胶膜，并以该胶膜将该晶圆置于一框架之中，其特征在于，该盘式载具包括：

一清洗槽；

一环形槽，环绕在该清洗槽的周围；

一排放槽，设置于该清洗槽与该环形槽之间；

至少一第一流道，连通该清洗槽与该排放槽；以及

至少一第二流道，连通该环形槽与该排放槽；

其中，该盘式载具用以供该框架置放于其上，令该晶圆对应于该清洗槽，该胶膜未被该晶圆遮蔽的部分对应于该环形槽，该第一流道用以提供一第一流体注入到该清洗槽内，并以该第一流体清洗该晶圆，该第二流道用以提供一第二流体注入到该环形槽内，并以该第二流体限制该第一流体不接触到该胶膜。

2.如权利要求1所述的用于清洗晶圆的盘式载具，其特征在于，该第一流道具有至少一第一入口及至少一第一出口，该第二流道具有至少一第二入口及至少一第二出口，该第一入口形成在该清洗槽内，该第二入口形成在该环形槽内，该第一出口连接该排放槽，该第二出口连接该排放槽，并且该第一出口与该第二出口之间相互通连。

3.如权利要求2所述的用于清洗晶圆的盘式载具，其特征在于，该清洗槽具有一底面及一围绕该底面的导斜面，该清洗槽远离该底面的另一侧形成一开口，该晶圆可选择的遮蔽该开口，该第一入口开设在该清洗槽的该底面，该第一出口形成在该导斜面的末端并与该开口相通连。

4.如权利要求3所述的用于清洗晶圆的盘式载具，其特征在于，该清洗槽自该底面至该开口呈一渐扩状。

5.如权利要求2所述的用于清洗晶圆的盘式载具，其特征在于，中该环形槽具有一底面，该环形槽远离该底面的另一侧形成一槽口，该胶膜未被该晶圆遮蔽的部分可选择的遮蔽住该槽口并产生一倾斜角度，该第二入口开设在该环形槽，该第二出口形成在该环形槽的该槽口处。

6.如权利要求1所述的用于清洗晶圆的盘式载具，其特征在于，该第一流道具有至少一第一入口及至少一第一出口，该第二流道具有至少一第二入口及至少一第二出口，该第一入口形成在该清洗槽内，该第二入口形成在该环形槽内，该第一出口连接该排放槽，该第二出口连接该排放槽，并且该第一出口与该第二出口之间具有一阻隔元件且相互不通连。

7.如权利要求6所述的用于清洗晶圆的盘式载具，其特征在于，该清洗槽具有一底面及一围绕该底面的导斜面，该清洗槽远离该底面的另一侧形成一开口，该晶圆可选择的遮蔽该开口，该第一入口开设在该清洗槽的该底面，该第一出口形成在该导斜面的末端并与该开口相通连。

8.如权利要求7所述的用于清洗晶圆的盘式载具，其特征在于，该清洗槽自该底面至该开口呈一渐扩状。

9.如权利要求7所述的用于清洗晶圆的盘式载具，其特征在于，更包括多数导引沟槽，该些导引沟槽自该第一入口沿着径向呈放射状的开设在该底面。

10.如权利要求6所述的用于清洗晶圆的盘式载具，其特征在于，该环形槽具有一底面，该环形槽远离该底面的另一侧形成一槽口，该胶膜未被该晶圆遮蔽的部分可选择的遮蔽住该槽口，该第二入口开设在该环形槽，该第二出口形成在该环形槽的该槽口处。