[实用新型]磁控溅射旋转靶有效
| 申请号： | 201420062629.4 | 申请日： | 2014-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN203741407U | 公开（公告）日： | 2014-07-30 |
| 发明（设计）人： | 肖世文 | 申请（专利权）人： | 广州市尤特新材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 谭英强 |
| 地址： | 510880 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 旋转 | ||
【权利要求书】：
1.一种磁控溅射旋转靶，其特征在于：包括管状的衬管(1)和固定套接在衬管(1)外壁上并随衬管(1)旋转的靶材(2)，所述衬管(1)和靶材(2)的连接面上设有中间层，所述中间层为导电胶(3)。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射旋转靶，其特征在于：所述导电胶(3)的厚度为0.05-0.2mm。
3.根据权利要求1所述的磁控溅射旋转靶，其特征在于：所述导电胶(3)包括银导电胶、铜导电胶或铝导电胶。
4.根据权利要求1所述的磁控溅射旋转靶，其特征在于：所述靶材(2)的材质为合金、陶瓷、石墨或硅。
5.根据权利要求1所述的磁控溅射旋转靶，其特征在于：所述衬管(1)由导体材质制成。
6.据权利要求1至5中任一项所述的磁控溅射旋转靶，其特征在于：所述衬管(1)与靶材(2)螺纹连接，所述导电胶(3)均布于螺纹连接面上且充满衬管(1)与靶材(2)的螺纹间隙。
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