[实用新型]一种定点提取晶圆表面污染物的装置

权利要求书

1.一种定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于，所述定点提取晶圆表面污染物的装置至少包括：

底座，所述底座上设有放置晶圆的收容腔；

盖体，所述盖体上设有若干取样口；

以及连接所述盖体和底座的连接件。

2.根据权利要求1所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于：所述盖体为圆形，所述盖体的面积大于或等于所述晶圆的面积。

3.根据权利要求1所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于：所述取样口均匀设置于所述盖体上。

4.根据权利要求1所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于：所述取样口底部与盖体底部平齐，顶部高于盖体顶部或与盖体顶部平齐。

5.根据权利要求1所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于：所述取样口的横截面为圆形、三角形或多边形。

6.根据权利要求1所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于：所述底座为圆形、正方形或矩形。

7.根据权利要求1所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于：所述收容腔为圆形，所述收容腔的面积大于或等于所述晶圆的面积；所述收容腔的深度d小于或等于所述晶圆的厚度。

8.根据权利要求1所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于：所述连接件由底座凸起部和位于盖体一侧的凸出部构成，所述底座凸起部靠近盖体的一侧内设有卡槽，所述盖体通过设定在其一侧的凸出部固定在底座凸起部的卡槽内上下滑动。

9.根据权利要求8所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于：所述底座凸起部的高度h₁大于或等于盖体的厚度d₁和所述晶圆的厚度之和。

10.根据权利要求8所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于：所述盖体一侧凸出部的高度h₂小于或等于盖体的厚度d₁；所述底座凸起部内卡槽的高度h₃小于或等于底座凸起部的高度h₁。

11.根据权利要求8所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于：所述盖体一侧凸出部的第一宽度d₂小于或等于底座凸起部卡槽开口的宽度d₃；所述盖体一侧凸出部的第二宽度d₄小于或等于底部凸起部卡槽的宽度d₅，大于或等于底座凸起部卡槽开口的宽度d₃。

12.根据权利要求8所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于：所述盖体一侧凸出部的第一长度L₁大于或等于底座凸起部卡槽开口的深度d₆；所述盖体一侧凸出部的第二长度L₂小于或等于底座凸起部卡槽的深度d₇；且所述盖体一侧凸出部的第一长度L₁与第二长度L₂之和小于或等于底座凸起部卡槽开口的深度d₆与底座凸起部卡槽的深度d₇之和。