[实用新型]一种制备ITO靶材坯体的装置

说明书

【技术领域】

本实用新型涉及材料技术领域，尤其涉及一种制备ITO靶材坯体的装置，具体涉及一种制备大规格高密度ITO靶材坯体的装置。

【背景技术】

已知的，ITO靶材坯体成型技术分为干法成型与湿法成型两大类，其中干法普遍采用先模压再冷等静压（CIP）的方法，既将ITO粉料直接置于模具中，通过压机进行轴向加压而成型，再通过冷等静压（CIP）进一步提高坯体致密度，该方法的制程短、操作简单，但成型坯体密度不均匀、模压过程易出现分层、对模具和压机精度要求高、难于压制大规格坯体等。ITO靶材坯体的湿法成型通常是将预先制备的ITO浆料浇注到石膏模中，采用多面、双面或单面吸浆，使ITO坯体成型，用该法可得到大规格、高密度、均匀的板状坯体，且成本较低，但注浆成型的难点是没有适合于浇注的浆料的制备技术，申请人经过检索，找到在2010年“陶瓷” 第7期《高性能ITO陶瓷靶材生产技术发展趋势》一文中，提到一种注浆成型的工艺流程：以去离子水为溶剂，将ITO粉制成浆料，再于一定压力下注入模具内使之成型为素坯等，但是，以上注浆成型技术通常采用石膏模具，吸水速度慢，成型时间长，因而坯体密度较低，并且容易开裂，导致在制备大规格ITO靶材坯体时废品率较高等。

同时，目前ITO靶材主要供应商以日本、韩国为主，占据95%以上的市场份额，国产ITO靶材受技术水平的限制，其尺寸较小，品质不高，导致平板显示器所用的高中端ITO靶材全部依赖进口，因此，探索一条低成本制备大规格、高密度ITO靶材的生产工艺路线及相关生产设备，将会在国内ITO靶材市场竞争中占据有利地位，也将带来可观的经济效益和社会效益等。

【发明内容】

为克服背景技术中存在的不足，本实用新型提供了一种制备ITO靶材坯体的装置，本实用新型通过在上模和下模的中部设置微孔模具，在上模的顶端设置密封盖形成密闭的上工作腔，其中上工作腔通过管路连接真空泵A，下模连接真空泵B，然后分别操作真空泵A和真空泵B，进而实现对微孔模具上放置的ITO浆料抽真空除泡及获取高密度的均匀ITO靶材坯体，本实用新型具有结构简单，使用方便等特点。

为实现如上所述的发明目的，本实用新型采用如下所述的技术方案：

一种制备ITO靶材坯体的装置，包括上模、下模、密封盖和微孔模具，所述下模的底部设有阀门B，在下模4的上部设有上模，在上模的顶部设有密封盖形成一密闭的腔体，在密闭的腔体的中部设有微孔模具使上模与微孔模具之间形成上工作腔，所述上工作腔通过管路连接真空泵A，在真空泵A与上工作腔之间的管路上设有阀门A，其中下模通过管路连接真空泵B，在真空泵B与下模之间的管路上连接有真空计。

所述的制备ITO靶材坯体的装置，所述下模与真空泵B之间设有缓冲罐，在下模与缓冲罐之间的管路上设有真空计。

采用如上所述的技术方案，本实用新型具有如下所述的优越性：

本实用新型所述的一种制备ITO靶材坯体的装置，本实用新型通过在上模和下模的中部设置微孔模具，在上模的顶端设置密封盖形成密闭的上工作腔，其中上工作腔通过管路连接真空泵A，下模连接真空泵B，然后分别操作真空泵A和真空泵B，进而实现对微孔模具上放置的ITO浆料抽真空除泡及获取高密度的均匀ITO靶材坯体，本实用新型具有结构简单，使用方便等特点，同时本实用新型出制备的ITO靶材坯体规格大、密度高、纯度高、成本低，特别适合于氧气氛条件下烧结制成大规格高端ITO靶材坯体。

【附图说明】

图1是本实用新型的结构示意图；

在图中：1、阀门A；2、真空泵A；3、锁紧螺栓；4、下模；5、阀门B；6、密封盖；7；上模、8、真空计；9、ITO浆料；10、真空泵B；11、微孔模具；12、缓冲罐。

【具体实施方式】

通过下面的实施例可以更详细的解释本实用新型，本实用新型并不局限于下面的实施例；