[实用新型]光取向用偏振照射装置

权利要求书

1.一种光取向用偏振照射装置，其沿着形成取向膜的基板的宽度方向延伸设置光照射部，一边沿着与所述基板的宽度方向交叉的扫描方向扫描所述基板或所述光照射部，一边向所述基板上照射特定波长的偏振光，所述光照射部具备光源、特定波长选择滤波器以及线栅偏振器，所述光取向用偏振照射装置的特征在于，

所述光照射部具备包覆所述线栅偏振器的导电体栅格的防氧化膜，

所述光照射部具备对所述线栅偏振器进行冷却的空冷装置。

2.根据权利要求1所述的光取向用偏振照射装置，其特征在于，

所述空冷装置向所述特定波长选择滤波器与所述线栅偏振器之间供给冷却风，或者

所述空冷装置向所述线栅偏振器上的形成所述特定波长选择滤波器的滤波器层供给冷却风。

3.根据权利要求1所述的光取向用偏振照射装置，其特征在于，

所述空冷装置沿着所述扫描方向供给冷却风。

4.根据权利要求2所述的光取向用偏振照射装置，其特征在于，

所述空冷装置沿着所述扫描方向供给冷却风。

5.根据权利要求1所述的光取向用偏振照射装置，其特征在于，

所述光照射部具备以惰性气体气氛覆盖所述线栅偏振器的导电体栅格的气体填充装置。

6.根据权利要求2所述的光取向用偏振照射装置，其特征在于，

所述光照射部具备以惰性气体气氛覆盖所述线栅偏振器的导电体栅格的气体填充装置。

7.根据权利要求3所述的光取向用偏振照射装置，其特征在于，

所述光照射部具备以惰性气体气氛覆盖所述线栅偏振器的导电体栅格的气体填充装置。

8.根据权利要求4所述的光取向用偏振照射装置，其特征在于，

所述光照射部具备以惰性气体气氛覆盖所述线栅偏振器的导电体栅格的气体填充装置。

9.根据权利要求5所述的光取向用偏振照射装置，其特征在于，

所述气体填充装置为在所述导电体栅格的周围密封惰性气体的密封框。

10.根据权利要求6所述的光取向用偏振照射装置，其特征在于，

所述气体填充装置为在所述导电体栅格的周围密封惰性气体的密封框。

11.根据权利要求7所述的光取向用偏振照射装置，其特征在于，

所述气体填充装置为在所述导电体栅格的周围密封惰性气体的密封框。

12.根据权利要求8所述的光取向用偏振照射装置，其特征在于，

所述气体填充装置为在所述导电体栅格的周围密封惰性气体的密封框。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的光取向用偏振照射装置，其特征在于，

所述光照射部通过沿所述基板的宽度方向并列配置多个光照射单元而构成，所述光照射单元具备光源、特定波长选择滤波器以及线栅偏振器，

所述光源将该光源的长边方向沿着所述扫描方向配置。

14.根据权利要求13所述的光取向用偏振照射装置，其特征在于，

所述光照射单元沿着所述扫描方向配置有多段，一个段中的所述光照射单元的位置和与所述一个段相邻的段中的所述光照射单元的位置相互移位而配置。