[实用新型]光取向用偏振照射装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于光取向处理的光取向用偏振照射装置。

背景技术

近年来，在形成液晶元件的取向膜或利用紫外线硬化型液晶的光学薄膜的取向层等具有使液晶分子取向的功能的膜或层(以下统称为取向膜)时，采用光取向处理。在进行光取向处理时，向成为取向膜的感光性树脂膜以偏振轴特定的偏振状态(例如直线偏振状态)照射所选择波长(例如紫外光)的光。

光取向处理用偏振照射装置已知有一种如下装置：为了连续形成具有规定宽度的取向膜，沿着取向膜的宽度方向配置棒状的光源(长弧灯)，组合该光源和偏振器沿着取向膜的宽度方向照射选择波长的偏振光，并向与取向膜的宽度方向交叉的方向扫描该光源和偏振器(参考下述专利文献1)。

专利文献1：日本特开2006－133498号公报

长弧灯在使光取向处理所需的短波长紫外光(例如254nm波长光)高效地发光时也适合作为光取向用偏振照射装置的光源。在将长弧灯用作光源时，由于向与光源的长边方向交叉的方向呈放射状照射光，因此偏振器使用入射角度依赖性较少的线栅偏振器。

线栅偏振器为如下偏振器：在石英玻璃等透明基板上形成导电体栅格的格子状图案，将导电体栅格的间距设为所入射的光的波长以下，从而反射与栅格的长边方向平行的偏振成分，使与栅格的长边方向正交的偏振成分通过。

利用这种线栅偏振器的光取向用偏振照射装置存在如下问题：由铝等金属形成的导电体栅格接收所入射的短波长紫外光而引起氧化或热变化，导致线栅偏振器的性能劣化。通常情况下，偏振器的性能能够用所透射的偏振光的消光比ER(=Ip／Is，Ip为P偏振强度，Is为S偏振强度)表示，但若长期使用利用线栅偏振器的光取向用偏振照射装置，则产生因前述导电体栅格的氧化等而无法获得所期望的消光比的问题。

并且，光取向用偏振照射装置有为了获得所期望的照射光波长而在光源与偏振器之间配置使特定波长透射的滤波器的情况，但该滤波器有时受入射光引起的热影响而导致波长选择性下降，因此也存在因长期使用而产生性能劣化的问题。

并且，以往的光取向用偏振照射装置由于线栅偏振器的导电体栅格直接与取向膜面对面，因此不仅使露出的导电体栅格暴露成容易氧化的状态，而且使来自取向膜的气化成分附着于导电体栅格，因此也有可能发生性能劣化。

实用新型内容

本实用新型以解决这种问题为课题的一例。即，本实用新型的目的在于能够提供一种即使长期使用也可抑制线栅偏振器或特定波长选择滤波器的性能劣化、且耐久性高的光取向用偏振照射装置等。

为了实现这种目的，根据本实用新型的光取向用偏振照射装置至少具备以下结构。

一种光取向用偏振照射装置，其沿着形成取向膜的基板的宽度方向延伸设置光照射部，一边沿着与所述基板的宽度方向交叉的扫描方向扫描所述基板或所述光照射部，一边向所述基板上照射特定波长的偏振光，所述光照射部具备光源、特定波长选择滤波器以及线栅偏振器，其中，所述光照射部具备包覆所述线栅偏振器的导电体栅格的防氧化膜，所述光照射部具备对所述线栅偏振器进行冷却的空冷装置。

根据这种特征的光取向用偏振照射装置，能够抑制与长期使用相伴的线栅偏振器或特定波长选择滤波器的性能劣化，进而能够获得耐久性高的光取向用偏振照射装置。

附图说明

图1是示出本实用新型的一实施方式所涉及的光取向用偏振照射装置的整体结构的说明图。

图2是示出本实用新型的一实施方式所涉及的光取向用偏振照射装置的整体结构的说明图。

图3是示出本实用新型的其他实施方式所涉及的光取向用偏振照射装置的整体结构的说明图。

图4是示出本实用新型的其他实施方式所涉及的光取向用偏振照射装置的整体结构的说明图。

图5是示出本实用新型的其他实施方式所涉及的光取向用偏振照射装置的整体结构的说明图。

附图标记说明

1-光取向用偏振照射装置，2-光照射部，3-基板台，4-扫描装置，20-光源，21-特定波长选择滤波器，22-线栅偏振器，22A-母材，22B-导电体栅格，22C-防氧化膜，23-空冷装置，24-气体填充装置，24A-密封框，2U-光照射单元，W-基板，S-扫描方向，C-冷却风，G-惰性气体。

具体实施方式