[实用新型]芯片封装结构有效

专利信息
申请号: 201420090766.9 申请日: 2014-02-28
公开(公告)号: CN203721707U 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 叶佳明 申请(专利权)人: 矽力杰半导体技术(杭州)有限公司
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310012 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 芯片 封装 结构
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及半导体封装领域,更具体地涉及一种芯片封装结构。

背景技术

众所周知,半导体芯片的正面为具有电极的有源面,其背面为不具有电极的封装体。芯片倒装即将芯片有源面通过导电凸块连接于芯片载体上。随着芯片倒装工艺的不断发展和日趋成熟,倒装工艺以其良好的电学热学性能以及能减小芯片的封装尺寸等优点,从而被广泛应用。

但是,芯片集成度越高,则在芯片有源面上需要引出的电极也就越多,而有源面的表面尺寸非常有限,由于在倒装时需要引出的电极则要通过导电凸块电连接至芯片载体上,在有源面上能够排布的导电凸块非常有限,这就导致部分电极难以被引出。同时,考虑到部分器件(如:功率器件)在芯片中的位置,其中器件内的某些电极难以引至有源面。

综上所述,现有技术的芯片封装结构由于有源面尺寸有限,无法满足集成化和小型化条件下导电凸块排布和电极引出的需要。在芯片内集成特殊器件时,若器件的某一电极位于靠近芯片背面一侧,也会给电极的引出带来不便。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型的目的在于提供一种的芯片封装结构,以解决现有技术中芯片没有足够的位置来引出电极和芯片内部分器件的电极不方便引出的问题。

本实用新型的技术解决方案是,提供一种以下结构的芯片封装结构,包括芯片载体和芯片层,所述的芯片层至少包括顶层芯片,所述的顶层芯片至少包括一块芯片,在顶层芯片内设有导电孔,所述的导电孔通向顶层芯片的背面,并将顶层芯片上有源面的电极或顶层芯片内有源区的电极引至顶层芯片的背面,在顶层芯片的背面设置重新布线层,在重新布线层上引出电极通过引线键合至芯片载体上。

优选地,所述顶层芯片的有源面通过导电凸块与芯片载体电连接;实现顶层芯片在芯片载体上的倒装。

优选地,所述的芯片层还包括位于顶层芯片下方的底层芯片,所述的底层芯片内也设有导电孔,所述导电孔通向底层芯片的背面,并将底层芯片上有源面的电极或底层芯片内有源区的电极引至底层芯片的背面,在底层芯片背面也设置重新布线层,底层芯片的有源面通过导电凸块与芯片载体电连接;优选地,所述顶层芯片的有源面通过导电凸块与底层芯片背面的重新分布层电连接。

优选地,在顶层芯片和底层芯片之间设有至少一层中层芯片,所述中层芯片内也设有导电孔,所述导电孔通向中层芯片的背面,并将中层芯片上有源面的电极或中层芯片内有源区的电极引至中层芯片的背面,在中层芯片背面也设置重新布线层,顶层芯片的有源面通过导电凸块与中层芯片背面的重新布线层电连接,中层芯片的有源面通过导电凸块与底层芯片背面的重新分布层电连接。

优选地,在所述顶层芯片背面的重新布线层上引出电极通过引线键合至底层芯片或/和中层芯片背面的重新分布层上。

优选地,所述的底层芯片或/和中层芯片背面的重新分布层上引出电极通过引线键合至芯片载体上。

优选地,所述的芯片封装结构还包括被动元件层,所述的被动元件层放置在顶层芯片上,并与顶层芯片的重新布线层电连接;提高了产品的集成化程度。

优选地,所述顶层芯片、底层芯片和中层芯片的重新分布层均包括绝缘层和图案化导电层,所述绝缘层覆设于芯片的背面,图案化导电层设置在绝缘层上,并与相应的导电孔电连接。

采用本实用新型的结构,与现有技术相比,具有以下优点:由于通过在芯片内形成导电孔,并对导电孔进行重新布线后,将电极引出从而引线键合至芯片载体或其他层的芯片,在芯片有源面位置有限的情况下,可以从其背面将电极引出,布局更加合理,同时芯片内的部分器件的有源区靠近芯片背面,通过导电孔将有源区从背面引出更为方便。

附图说明

图1为本实用新型芯片封装结构的结构示意图(实施例1);

图2为本实用新型芯片封装结构的结构示意图(实施例2);

图3为本实用新型芯片封装结构的结构示意图(实施例3);

图4为本实用新型芯片封装结构的结构示意图(实施例4);

具体实施方式

以下将参照附图更详细地描述本实用新型的各种实施例。在各个附图中,相同的元件采用相同或类似的附图标记来表示。

为了清楚起见,附图中的各个部分没有按比例绘制。为了简明起见,可以在一幅图中描述经过数个步骤后获得的组件结构。此外,还可能省略某些公知的细节。对于芯片的位置,以下实施例附图中,均为有源面朝下,背面朝上。

实施例1:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于矽力杰半导体技术(杭州)有限公司,未经矽力杰半导体技术(杭州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420090766.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top