[实用新型]用于锦纶6切片生产的沉淀式清洗系统有效

专利信息
申请号: 201420104055.2 申请日: 2014-03-10
公开(公告)号: CN203764592U 公开(公告)日: 2014-08-13
发明(设计)人: 沈金华;俞忠利 申请(专利权)人: 浙江美邦实业集团有限公司
主分类号: B08B3/04 分类号: B08B3/04;B08B13/00
代理公司: 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 代理人: 来剑锋
地址: 311200 浙江省杭州市萧*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 用于 锦纶 切片 生产 沉淀 清洗 系统
【权利要求书】:

1.一种用于锦纶6切片生产的沉淀式清洗系统,包括清洗槽(1),清洗槽(1)上设有清洗液进口(2)和排泄口(3),其特征是还包括A罐(4)和B罐(5),所述A罐(4)和B罐(5)的水平位置高于所述清洗槽(1);所述A罐(4)和B罐(5)分别通过位于中部的溢流管(6)连接有A沉淀罐(7)和B沉淀罐(8),所述清洗液进口(2)与一根进液管(9)的一端相连接,所述进液管(9)的另一端分叉后分别与所述A沉淀罐(7)和B沉淀罐(8)的中部相连接,且在该进液管(9)的分叉段上分别设有相应的A输出阀(10)和B输出阀(11);所述排泄口(3)与一根出液管(12)的一端相连接,所述出液管(12)的另一端分叉后分别与所述A罐(4)和B罐(5)的顶部相连接,且在该出液管(12)的分叉段上分别设有相应的A输入阀(13)和B输入阀(14);所述出液管(12)上设有输送泵(15)和输送阀(16)。

2.根据权利要求1所述的用于锦纶6切片生产的沉淀式清洗系统,其特征是所述A沉淀罐(7)容积小于A罐(4),所述B沉淀罐(8)容积小于B罐(5)。

3.根据权利要求1或2所述的用于锦纶6切片生产的沉淀式清洗系统,其特征是所述A沉淀罐(7)和B沉淀罐(8)都由罐体(25)和上盖(26)构成,在所述罐体(25)底部设有中空且上表面布满通孔(17)的腔式沉淀器(18),所这腔式沉淀器(18)上端面连接有手拉支架(19)。

4.根据权利要求3所述的用于锦纶6切片生产的沉淀式清洗系统,其特征是所述通孔(17)设置在位于腔式沉淀器(18)上表面的凹坑(20)中。

5.根据权利要求4所述的用于锦纶6切片生产的沉淀式清洗系统,其特征是所述腔式沉淀器(18)由上腔(21)和下腔(22)连接而成,所述上腔(21)上设有所述通孔(17),所述下腔(22)底面上设有凸环(23),所述凸环(23)内连接有用于稳定液面的稳定带(24)。

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