[实用新型]用于锦纶6切片生产的沉淀式清洗系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种清洗系统，尤其是一种用于锦纶6切片生产的沉淀式清洗系统。

背景技术

在锦纶6切片生产过程中所用到的各种零部件（如滤芯）清洗槽进行清洗，在清洗槽中通常充满有清洗液，反复使用后，清洗液因沉淀物增多而变得混浊，现有技术中，这些混浊的清洗液都是直接通过排泄口排掉，由于清洗液不能回收利用造成了资源的浪费，不利于节约生产成本，由于存在上述技术问题，因此有必要对现有的清洗系统进行改进。

发明内容

本实用新型的目的是为了解决上述技术的不足而设计的一种清洗液可反复使用的用于锦纶6切片生产的沉淀式清洗系统。

本实用新型所设计的用于锦纶6切片生产的沉淀式清洗系统，包括清洗槽，清洗槽上设有清洗液进口和排泄口，其特征是还包括A罐和B罐，所述A罐和B罐的水平位置高于所述清洗槽；所述A罐和B罐分别通过位于中部的溢流管连接有A沉淀罐和B沉淀罐，所述清洗液进口与一根进液管的一端相连接，所述进液管的另一端分叉后分别与所述A沉淀罐和B沉淀罐的中部相连接，且在该进液管的分叉段上分别设有相应的A输出阀和B输出阀；所述排泄口与一根出液管的一端相连接，所述出液管的另一端分叉后分别与所述A罐和B罐的顶部相连接，且在该出液管的分叉段上分别设有相应的A输入阀和B输入阀；所述出液管上设有输送泵和输送阀。

这种沉淀式清洗系统，使用时，打开A输出阀，先将A沉淀罐中储存的清洗液由于自身压强的作用可通过进液管输入至清洗槽中，这样零部件就可放在清洗槽中进行清洗；当反复清洗使清洗液变得混浊后，打开A输入阀，并使输送泵和输送阀工作，将清洗槽的混浊清洗液打入A罐中，下一次清洗时，打开B输出阀即可将B沉淀罐中储存的清洗液通过进液管输入至清洗槽中，这样清洗槽中又充满清洗液可以对零部件进行清洗，而此时A罐和A沉淀罐中的混浊液得到了沉淀纯净度变高，可以进行再下一次的重复使用，当清洗槽中的清洗液变得混浊后可将其打回B罐中并在B罐和B沉淀罐中沉淀，再次使用时利用A沉淀罐中沉淀后的清洗液为清洗槽供液；如此反复即可实现对清洗液的重复利用。清洗液不仅可以在A罐和B罐中沉淀，还可以通过溢流管溢流至与它们相连接的沉淀罐进行沉淀，由于溢流管与A罐和B罐连接处的位置位于中部，因此沉淀下来的沉淀物在清洗液重复利用时不易被抽入A沉淀罐和B沉淀罐，从而确保A沉淀罐和B沉淀罐中清洗液的纯净度；在长期使用过程中，A罐、B罐、A沉淀罐、B沉淀罐都可以进行定期清理，重新更换清洗液。

作为优选：

所述A沉淀罐容积小于A罐，所述B沉淀罐容积小于B罐；由于A罐和B罐中的沉淀物在清洗液重复利用时不易被直接排出，使沉淀罐体积较大可提高沉淀效果，使更多的清洗液得到有效沉淀。

所述A沉淀罐和B沉淀罐都由罐体和上盖构成，在所述罐体底部设有中空且上表面布满通孔的腔式沉淀器，所这腔式沉淀器上端面连接有手拉支架；这样在A、B沉淀罐中沉淀下来的沉淀物就会通过通孔落入至腔式沉淀器中，在反复流动过程中，沉淀物被限制在腔式沉淀器中不易排出，这样可以使反复使用的清洗液纯净度更高，这样的腔式沉淀器也可以应用在A罐和B罐中；拉支架的作用是可以方便地将腔式沉淀器从沉淀罐中取出进洗清洗。

所述通孔设置在位于腔式沉淀器上表面的凹坑中；这样的方案，当腔式沉淀器定期清理向上取出时，一些堆积在凹坑处的沉淀物可以落入到腔式沉淀器内、而不是落到腔式沉淀器外，从而确保清洗液更清洁。

所述腔式沉淀器由上腔和下腔连接而成，所述上腔上设有所述通孔，所述下腔底面上设有凸环，所述凸环内连接有用于稳定液面的稳定带。凸环的作用是使沉淀物更稳定地堆积在下腔上，稳定带的作用是稳定液位，在清洗液的流动过程中或者腔式沉淀器的取出过程中，稳定带可以确保腔式沉淀器内液面相对平稳，防止因液面波动而使沉淀物溢出腔式沉淀器，从而确保清洗液更清洁。

本实用新型所设计的用于锦纶6切片生产的沉淀式清洗系统，反复使用后清洗槽中的变得混浊的清洗液可以在A罐和B罐间循环，并在A罐、B罐和A、B沉淀罐中得到沉淀，从而实现清洗液的反复利用，节约资源，降低生产成本。

附图说明

图1是实施例1的结构示意图；

图2是实施例2中A沉淀罐的结构示意图；

图3是实施例2腔式沉淀器的结构示意图；

图4是实施例3腔式沉淀器上通孔的结构示意图；

图5是实施例4腔式沉淀器的结构示意图；