[实用新型]镭射母版的光刻机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于制作光柱渐变形式独特、防伪效果好的宽幅专版防伪全息图的镭射母版及制造该镭射母版的光刻机。 

背景技术

激光防伪技术自面世以来，经过数十年发展，经历了激光模压全息图像防伪标识、改进型激光全息图像防伪技术、加密全息图像防伪技术、激光全息真彩色3D防伪技术、宽幅激光全息点矩阵光刻防伪技术等五次升级换代。虽然宽幅激光全息点矩阵光刻防伪技术制造的宽幅激光镭射光柱全息图在包装材料上应用的初期确实能起到全息防伪作用，但是宽幅激光镭射光柱全息图的光柱渐变形式单一、其防伪效果是依靠高额投资壁垒来防止造假，因此随着相关厂商引进全息镭射大版宽幅机，这一制版技术为被行业某些厂商的掌握及应用后，宽幅激光镭射光柱全息图也就丧失了防伪功能，仅存留装饰包装材料外观效果的作用。 

从国内当前情况看，在300余家生产激光全息防伪标识的企业中，除少数几个企业能制作技术含量较高的短版高分辩率的3维真彩镭射产品外，一般厂家只能做一些小版的防伪镭射标识，所生产的激光防伪标识质量较低，只能用于一般商品上；对档次较高的商品(如全拼图烟包定位包装纸)，国内拥有宽幅的激光全息大版机技术的厂家虽然能制造出具有大版光柱全息图的镭射母版，但加工出来的产品表面的宽幅激光镭射光柱全息图依然存在光柱渐变形式单一的缺点,虽有局部定位防伪标识，但终因后期印刷套印偏移,套印技术难度加大从而引起废品率上升等弊端而严重制约着宽幅定位防伪标识全息包装的发展。 从而造成宽幅全息光柱或素面只能起到装饰作用，却并不具备真正防伪效果。如何在宽幅光柱及宽幅素面镭射版中融入防伪信息、能让广大消费者人群直观识别的直观防伪光柱或素面，且又便于后期印刷的套引呢？这就是我们要解决的问题。 

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术宽幅激光镭射光柱全息图的光柱渐变形式单一、防伪效果差的缺点，提供一种宽幅镭射母版，这种镭射母版制作出的防伪全息图光柱渐变形式多样(包括横型及纵向型及斜型光柱)、光柱中可植入随意设计好的色价对比度好的素描状图型元素，达到光柱局部水印展现效果，且直观防伪鉴别性强，采用的技术方案如下： 

一种镭射母版，包括镭射母版本体，所述镭射母版本体工作面上有全息图案，所述全息图案包括多个形成周期性渐变光柱单元体全息图的光柱周期性像素点单元，其特征在于：所述全息图案中至少一个区域中部分像素点单元为局部素描图案光柱体标识的标识像素点单元，所述标识像素点单元光栅条纹深线的凹凸规律与光柱周期性像素点单元光栅条纹深线的凹凸规律不同(即两者有差异)，从而产生局部素描图案光柱体标识。也就是说这是标识像素点单元的深浅度与背景的光柱周期性像素点单元的深浅度不同(即两者有差异)而所展现出的光体镭射识别效果(即曝光参数不同)。上述两者相同的是光变角度一致，因此展现出来的效果就是一幅隐约带有局部素描水印的彩虹镭射光柱全息图。比原来的宽幅定位动态标识防伪更隐蔽些，且整体性良好。所述镭射母版压制出的大版光柱全息图，其大幅面光柱渐变光谱与局部标识光谱(由素描图案像素点单元组成)的光柱方向、折射位置统一，以一个完整的同步光柱体展现；通过于水印图形某个(某部分)像素点单元的曝光率不同所呈现出来的光栅条纹深浅度不同，产生了半透明的遮罩素描水印。这种镭射母版，其表面具有周期性渐变光柱单元体全息图且融入了防伪识别立体素描图案或立体文字，其对应位置与背景光柱折射角度统一，即标识图案也是光柱体且与背景大幅面光柱体浑然一体，像水印样式隐约隐现的叠加在一起，在不破坏背景的整体光柱效果的基础上植入局部标识光柱全息图，其特征具有防伪水印的直观识别效果。 

所述局部素描图案光柱体标识的标识像素点单元与光柱周期性像素点单元 的光变角度一致、光柱方向一致、折射位置统一、曝光率不同(即两者有差异)，因此两者所呈现出来的光栅条纹深浅度也不同(即两者有差异)。 

用于加工上述镭射母版的光刻机，包括激光器、多分辨率遮眼片、第一折射透镜、第二折射透镜、缩微透镜、采用旋转电机控制其转动的玻璃光栅片，其特征在于：所述激光器、玻璃光栅片、多分辨率遮眼片、第一折射透镜、第二折射透镜、缩微透镜依次呈光学配合排列。所述光刻机加工完待加工光刻感光胶版表面后，再通过喷银后电铸成银版再翻转为镍版材料，获得镭射母版，再膜压热转移到镭射膜上，制成光柱渐变形式独特、防伪效果好的镭射膜。 

较优的方案，所述缩微透镜为10倍缩微透镜。 

较优的方案，所述玻璃光栅片为纳米级条纹的玻璃光栅片。