[实用新型]用于收集晶片表面液滴的装置

权利要求书

1.一种用于收集晶片表面液滴的装置，包括液滴收集腔和抽真空装置，所述液滴收集腔和所述抽真空装置通过连接管相连，在所述液滴收集腔正下方设置液滴收集管，其特征在于：所述液滴收集管的数量为五个，其中一个所述液滴收集管位于所述液滴收集腔正下方的中心位置，其余四个所述液滴收集管位于以所述液滴收集腔正下方的中心为圆心的圆周上。

2.根据权利要求1所述的用于收集晶片表面液滴的装置，其特征在于：所述液滴收集管的直径范围为100μm至1000μm。

3.根据权利要求2所述的用于收集晶片表面液滴的装置，其特征在于：所述液滴收集管的直径为500μm。

4.根据权利要求1所述的用于收集晶片表面液滴的装置，其特征在于：位于所述圆周上的液滴收集管距离位于所述中心位置的液滴收集管5mm。

5.根据权利要求1所述的用于收集晶片表面液滴的装置，其特征在于：位于所述圆周上的四个液滴收集管均匀分布于所述圆周上。

6.根据权利要求1所述的用于收集晶片表面液滴的装置，其特征在于：所述液滴收集管、所述液滴收集腔和所述连接管的材料为聚四氟乙烯。

7.根据权利要求1所述的用于收集晶片表面液滴的装置，其特征在于：所述液滴收集腔的容量大小范围为600μL-2000μL。

8.根据权利要求1所述的用于收集晶片表面液滴的装置，其特征在于：所述液滴收集腔的内径范围为8-10mm，高度范围为3-5mm。