[实用新型]一种改进的真空镀膜设备

权利要求书

1.一种改进的真空镀膜设备，包括真空腔室（1）、设置于所述真空腔室（1）内的镀膜机构，所述真空腔室（1）外连接有用于进行镀膜过程的供气机构和用于测量所述真空腔室（1）内真空度的真空检测机构，所述真空检测机构包括真空计（2），所述真空计（2）与所述真空腔室（1）之间连通有检测管（3），其特征在于：所述检测管（3）包括与所述真空腔室（1）连通的水平段（31）和一端与所述水平段（31）连通而另一端与所述真空计（2）连通的竖直段（32）；所述水平段（31）中部还设有滤尘通道，所述竖直段（32）上还设有防尘装置。

2.根据权利要求1所述的一种改进的真空镀膜设备，其特征在于：所述滤尘通道包括半径小于两端的所述水平段（31）的中间段（311），所述中间段（311）与所述水平段（21）之间密封连接有圆台管（312），所述圆台管（312）内固定连接有过滤网（313）。

3.根据权利要求1所述的一种改进的真空镀膜设备，其特征在于：所述防尘装置包括固定连接于所述竖直段（32）的气动电磁阀。

4.根据权利要求1或2或3所述的一种改进的真空镀膜设备，其特征在于：所述镀膜机构包括固定连接于所述真空腔室（1）上部的阴极靶材（4）和固定连接于所述真空腔室（1）下部的阳极基材（5）；所述供气机构包括布置于所述阴极靶材（4）附近的上供气管（6）和布置于所述阳极基材（5）附近的下供气管（7）。

5.根据权利要求4所述的一种改进的真空镀膜设备，其特征在于：所述阴极靶材（4）上还设有用于冷却所述阴极靶材（4）的水冷道（8）。

6.根据权利要求4所述的一种改进的真空镀膜设备，其特征在于：所述上供气管（6）和所述下供气管（7）上均设有用于控制气体流量的调节阀（9）。

7.根据权利要求6所述的一种改进的真空镀膜设备，其特征在于：所述上供气管（6）的气体流量大于所述下供气管（7）的气体流量。