[实用新型]一种改进的真空镀膜设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及现代镀膜技术领域，具体是一种改进的真空镀膜设备。

背景技术

真空磁控溅射技术就是一种利用阴极表面配合的磁场形成电子陷阱，使在E×B的作用下电子紧贴阴极表面飘移，设置一个与靶面电场正交的磁场，溅射时产生的快电子在正交的电磁场中作近似摆线运动，增加了电子行程，提高了气体的离化率，同时高能量粒子与气体碰撞后失去能量，基体温度较低，在不耐温材料上可以完成镀膜。这种技术是目前玻璃膜技术中的最尖端技术，是由航天工业、兵器工业、和核工业三个方面相结合的顶尖技术的民用化，目前民用主要是通过这种技术达到节能、环保等作用。该技术设备的真空环境需要外部真空计来进行测量校准，以往的真空计与真空环境腔体是直通式连接，腔体生产时混入的微尘、中性的靶材原子等会混入真空计中，长久以后造成真空计的损坏而影响到设备正常工作。如授权公告号为CN201704398U的专利中的一种真空溅射镀膜设备，仍然存在真空计容易被扬尘堵塞的问题，并不能很好地保护真空计而无法延长其使用寿命。

实用新型内容

本实用新型的技术目的在于提供一种一种改进的真空镀膜设备，解决设备真空计易被镀膜时产生的扬尘堵塞甚至损坏的问题。

本实用新型的具体技术方案如下：一种改进的真空镀膜设备，包括真空腔室、设置于所述真空腔室内的镀膜机构，所述真空腔室外连接有用于进行镀膜过程的供气机构和用于测量所述真空腔室内真空度的真空检测机构，所述真空检测机构包括真空计，所述真空计与所述真空腔室之间连通有检测管，所述检测管包括与所述真空腔室连通的水平段和一端与所述水平段连通而另一端与所述真空计连通的竖直段；所述水平段中部还设有滤尘通道，所述竖直段上还设有防尘装置。

所述检测管的水平和竖直两段折形连接能有效防止所述真空腔室内扬尘渗入并阻塞所述真空计，所述水平段中部的所述滤尘通道和所述竖直段上的防尘装置进一步保证了去尘效果，很好地保护到所述真空计。

作为优选，所述滤尘通道包括半径小于两端的所述水平段的中间段，所述中间段与所述水平段之间密封连接有圆台管，所述圆台管内固定连接有过滤网。

所述中间段的大小限制了扬尘的大量混入，并起到缓冲作用，能将部分扬尘沉积吸附在所述圆台管内壁和所述中间段内壁上；所述过滤网进一步吸附去尘。

作为优选，所述真空腔室还外连接有用于提供生产动力的驱动机构；所述防尘装置包括固定连接于所述竖直段且电连接于所述驱动机构的气动电磁阀。

所述气动电磁阀能够通过设备的驱动机构的启动或关闭电信号来控制开关状态，相对于以往不可控的直通式连接有效地阻止扬尘最终渗入所述真空计中，且控制方便。

作为优选，所述镀膜机构包括固定连接于所述真空腔室上部的阴极靶材和固定连接于所述真空腔室下部的阳极基材；所述供气机构包括布置于所述阴极靶材附近的上供气管和布置于所述阳极基材附近的下供气管。

所述上供气管从靠近所述阴极靶材处通入工艺气体，所述下供气管从靠近所述阳极基材出通入工艺气体，如此布置能减少靶材表面生成绝缘层，从而减少弧光放电、脱膜现象，并且气体分布均匀，易控制基材上所镀膜厚均匀性。

作为优选，所述阴极靶材上还设有用于冷却所述阴极靶材的水冷道。

所述阴极靶材在工作时会产生大量热量而升温，所述水冷道能帮助其进行冷却降温，保护工作组件不受损坏。

作为优选，所述上供气管和所述下供气管上均设有用于控制气体流量的调节阀。

作为优选，所述上供气管的气体流量大于所述下供气管的气体流量。

通过优化所述阴极靶材附近和所述阳极基材附近的进气量比重，可以获得均匀性较好的膜层，同时减少弧光放电、脱膜现象等。

本实用新型的技术优点在于所述真空镀膜设备结构紧凑、使用方便，能够很好的阻止所述真空腔室在工作时产生的扬尘通过管道渗入进所述真空计中，避免所述真空计误判或失效，延长了所述真空计的使用寿命，降低运维成本，使设备正常运转。

附图说明

图1为本实用新型一实施例的结构示意图；

图中编号对应的各部位名称分别为：1-真空腔室，2-真空计，3-检测管，31-水平段，311-中间段，312-圆台管，313-过滤网，32-竖直段，321-气动电磁阀，4-阴极靶材，5-阳极基材，6-上供气管，7-下供气管，8-调节阀。

具体实施方案

下面将结合附图，通过具体实施例对本实用新型作进一步说明：