[实用新型]真空泵抽气装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种半导体制造技术领域，尤其涉及一种真空泵抽气装置。

背景技术

在半导体器件的制备工艺时，机台的反应管内进行的各种反应一般都需要进行抽气操作，被抽的一部分气体中含有灰尘和水蒸汽等微粒，若发生真空泵因故障而停机的情况，被抽取的气体会被反灌到反应管内，气体中的微粒会导致反应管内的晶圆表面落尘量超标，从而影响器件的性能。目前来说，已有的抽真空装置大都采用一个真空泵对一个机台进行抽真空，如图1所示，一个真空泵1对一个机台2的反应管7进行抽真空，该真空泵1通过管路连接到机台2的主阀6，且该主阀6上设置有阀门开关，并通过控制阀门开关的角度来控制抽气速度，其中该主阀与真空泵连接的管道上还设有只允许气体单向流动的单向阀门即快速密封阀（Quick Sealing Valve，简称QSV）。

在生产过程中若真空泵因故障突然停机，此时管内仍然为真空，而从真空泵到机台收到故障信号并关闭主阀需要一定的反应时间，在这段反应时间内，被抽取的气体中的微粒会反灌进管内，从而导致了反应管内的晶圆表面落尘量超标，因此急需对真空泵抽气装置进行改进以减小真空泵故障对半导体器件制备工艺的负面影响。

中国专利（CN201916148U）公开了一种带控制保护系统的真空泵,它包括:真空泵主体和真空泵主体的控制保护装置,所述的控制保护装置包括过滤除湿装置防反灌装置和真空度控制装置,所述的过滤除湿装置依次由玻璃纤维过滤层干燥除湿过滤层、吸附净化过滤层和玻璃纤维过滤层组成；所述的真空度控制装置包括真空度检测装置、真空度读取装置和PLC控制模块。该实用新型提供的带控制保护系统的真空泵,结构设计合理,操作方便,不仅能有效去除所抽气体中的粉尘颗粒、水汽和腐蚀性有害气体,并且真空度控制装置可以自动控制真空泵的开启与关闭,从而能延长真空泵的使用寿命,节约能源,降低成本。

中国专利（CN202659479U）公开了一种防止真空体系倒吸的装置，包括真空泵电机、设置在真空泵电机上的接触器及该真空泵电机的电机控制开关，以及控制系统PLC模块和切断真空管路机构,所述的控制系统PLC模块检测出真空泵电机非正常运作，可向所述的切断真空管路系统发出指示信号。使用该实用新型提供的装置解决真空体系的倒吸问题，可控率高，能够有效杜绝任何介质的吸入；并且该实用新型施工简单，运行稳定，有自控部分的自检维护，操作简便，易于与其他自控体系兼容。

上述专利均是采用不同的装置保护真空泵，以及时的控制真空泵的工作状态，但是设计均较为复杂，并且一旦真空泵发生故障，制备工艺就会中止，从而对半导体制备工艺造成影响。

实用新型内容

针对上述存在的问题，本实用新型公开了一种真空泵抽气装置，以解决现有技术中真空泵因故障突然停机时，被抽取的气体中的微粒会反灌进管内，从而导致反应管内的晶圆表面落尘量超标的问题。

为达到上述目的，本实用新型采取如下具体技术方案：

一种真空泵抽气装置，应用于半导体器件的制备工艺中，其特征在于，所述装置包括：至少一机台、管道和若干真空泵；

每个所述机台均通过所述管道分别与所述若干真空泵相连，以进行抽气操作；

其中，与所述管道连接的真空泵的数量大于所述机台的数量。

上述的一种真空泵抽气装置，其中，所述管道包括若干第一支管道，若干第二支管道和一主管道。

上述的一种真空泵抽气装置，其中，每个所述真空泵均通过一个所述第一支管道与所述主管道连通,每个所述机台均通过一个所述第二支管道与所述主管道连通。

上述的一种真空泵抽气装置，其中，所述机台包括反应管、主阀，所述反应管通过所述机台的一内部管路连接所述主阀。

上述的一种真空泵抽气装置，其中，所述主阀上设有阀门开关，通过控制所述阀门开关的角度来控制抽气速度。

上述的一种真空泵抽气装置，其中，所述主阀与所述真空泵的连接管道上还设有一单向阀门。

上述的一种真空泵抽气装置，其中，每个所述机台均通过一个第二支管道以并联的方式与所述主管道连通。

上述的一种真空泵抽气装置，其中，每个所述真空泵均通过一个第一支管道以并联的方式与所述主管道连通。

上述的一种真空泵抽气装置，其中，所述真空泵的数量比所述机台的数量多一个。

上述的一种真空泵抽气装置，其中，所述第一支管道的数量和所述真空泵的数量相同，所述第二支管道的数量与所述机台的数量相同。

上述技术方案具有如下优点或有益效果：