[实用新型]矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置有效
| 申请号： | 201420197329.7 | 申请日： | 2014-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN203782228U | 公开（公告）日： | 2014-08-20 |
| 发明（设计）人： | 李晨光 | 申请（专利权）人： | 南昌欧菲光科技有限公司;深圳欧菲光科技股份有限公司;苏州欧菲光科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 李昕巍;赵根喜 |
| 地址： | 330013 江西省南昌*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 矩形 平面 磁控溅射 装置 | ||
1.一种矩形平面磁控溅射靶材，包含：
第一部分，对应位于其两端区域的部分；
第二部分，对应位于所述两端区域的之间区域的部分；
其特征在于：
所述第二部分的厚度大于所述第一部分的厚度。
2.根据权利要求1所述的矩形平面磁控溅射靶材，其特征在于，所述第二部分与第一部分的厚度之差可以使得在磁控溅射过程中，所述第二部分不先于所述第一部分达到刻蚀最低值。
3.根据权利要求2所述的矩形平面磁控溅射靶材，其特征在于，所述第二部分与第一部分的厚度之差可以使得在磁控溅射过程中，所述第二部分与所述第一部分同时达到刻蚀最低值。
4.根据权利要求1-3任意一项所述的矩形平面磁控溅射靶材，其特征在于，所述第二部分比所述第一部分厚1-2mm。
5.根据权利要求4所述的矩形平面磁控溅射靶材，其特征在于，所述第一部分的厚度为7-9mm，所述第二部分的厚度为8-11mm。
6.根据权利要求7所述的矩形平面磁控溅射靶材，其特征在于，所述矩形平面磁控溅射靶材为一体式结构。
7.根据权利要求1所述的矩形平面磁控溅射靶材，其特征在于，所述第一部分和第二部分均为独立结构。
8.一种矩形平面磁控溅射靶材，包括：
第一部分，对应位于均匀磁场区域的部分；
第二部分，对应位于非均匀磁场区域的部分；
其特征在于：
所述第二部分的厚度大于所述第一部分的厚度。
9.一种磁控溅射靶装置，包括：
背板以及贴覆在所述背板表面的矩形平面磁控溅射靶材；
其特征在于：
所述矩形平面磁控溅射靶材为如权利要求1-8任意一项所述的矩形平面磁控溅射靶材。
10.根据权利要求9所述的磁控溅射靶装置，其特征在于，所述背板厚度为8mm。
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