[实用新型]一种改进的多晶制绒RENA机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种改进的多晶制绒RENA机。

背景技术

硅片在切割过程中会在表面形成大约10μm厚的损伤层，这一层与硅片基体的性质不同，会严重影响太阳能电池的性能。清洗工序制绒工艺就是利用硅片的这一层损伤层，通过硝酸对其氧化制绒，形成高低不平的表面，大大增加电池片表面的受光面积，减少反射，从而提高太阳能电池的转换效率。在多晶制绒时，需要控制硅片的减薄量，尤其是需要控制硅片整面膜的减薄均匀性。

目前RENA制绒机台存在设计上的缺陷，制绒槽的进液方式存在缺陷，进液集中在整个槽体的一端，导致制绒机台道与道之间腐蚀程度存在差异，最终导致每道之间减重差异较大，且液体循环均匀性较差，得到的绒面均匀性、稳定性差，进而导致镀膜岗位的返工片和色差片等不良片的比率大大增加。

实用新型内容

本实用新型的目的在于对目前链式RENA多晶制绒机的进液方式进行研究，克服现有技术中存在的缺陷，提供一种可以均匀腐蚀硅片的多晶硅片制绒机。

为了实现上述目的，本实用新型的技术方案是一种改进的多晶制绒RENA机，其包括制绒槽，制绒槽内底部设有均流管组，均流管组包括位于制绒槽各道内的平行于硅片传动方向的均流管，均流管沿其长度方向分布有朝向水平或斜向制绒槽底部的进液口；各道均流管的一端与位于制绒槽内一侧的分配管相联通；制绒槽还设有溢流口，溢流口连接用于收集溢流液体的溢液收集箱，溢液收集箱与分配管通过连接管联通，连接管上设有循环泵。

为了尽可能提高腐蚀液的使用效率，优选地，所述均流管上的进液口为水平朝向，使均流管上的进液口能更高效地接触硅片，从而提高制绒效率。

为了提高制绒槽的腐蚀率的混合均匀性，各所述均流管的左右两侧沿所述均流管的长度方向各分布有至少两列、互相交错的进液口。交错分布进液口还可以降低各列的开孔密度，降低均流管的加工难度。

优选地，所述分配管也设有进液口。

最好所述分配管的进液口至少为两行，且各行进液口相互错开。

在腐蚀液进入均流管的瞬间及腐蚀液停止流动的瞬间，突然改变运动状态的腐蚀液会对均流管产生冲击力，易造成均流管的扭动与腐蚀液的流出方向改变，进而使待处理的硅片产生晃动而破片。为此优选地，所述制绒槽的底部设有用于固定所述均流管的固定机构。所述固定机构可以为与所述均流管外轮廓相卡合的U形夹

本实用新型的优点和有益效果在于：本实用新型制绒机通过对设备进行改造,将单一的进液方式变更为更为均匀的进液方式，提高了单道间单片的绒面的稳定性；同时将进液口朝向水平或斜向槽底设置，产生了更为均匀的腐蚀液混合效果，降低制绒机各道之间的减重差异；从上述两个方面提高了多晶硅片的腐蚀均匀性，从而降低了镀膜岗位返工片的比率, 提高电池片的外观质量。另外，进液口方向的改进设置和槽底U形夹的设置，还降低了多晶硅片因腐蚀液的冲刷产生的晃动而发生破片的机率，最终提高企业利润。

附图说明

图1是本实用新型改进的多晶制绒RENA机的剖视结构示意图；

图2是图1的俯视结构示意图；

图3是图1中均流管的立体结构示意图；

图4是图3中均流管的一种截面结构示意图;

图5是图3中均流管的另一种截面结构示意图；

图6是图1中A处的局部放大示意图。

图中：1、制绒槽；2、均流管；3、分配管；4、溢液收集箱；5、连接管；6、循环泵；7、U形夹；11、溢流口；20和30、进液口。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。

本实用新型是一种改进的多晶制绒RENA机，如图1至3所示，其包括制绒槽1，制绒槽内底部设有均流管组，均流管组包括位于制绒槽1各道内的平行于硅片传动方向的均流管2，均流管2沿其长度方向分布有进液口20；各道均流管2的一端与位于制绒槽1内一侧的分配管3相联通；制绒槽1还设有溢流口11，溢流口11连接用于收集溢流液体的溢液收集箱4，溢液收集箱4与分配管3通过连接管5联通，连接管5上设有循环泵6。