[实用新型]一种用于曝光的掩模台

权利要求书

1.一种用于曝光的掩模台，其特征在于，所述用于曝光的掩模台至少包括：

底座；

设置于所述底座上且用来支撑定位光掩模X方向的第一定位件；

设置于所述底座上且用来支撑定位光掩模Y方向的若干对第二定位件。

2.根据权利要求1所述的用于曝光的掩模台，其特征在于：所述第一定位件为真空夹具，所述真空夹具设置于所述光掩模两侧的下表面。

3.根据权利要求2所述的用于曝光的掩模台，其特征在于：所述第一定位件通过一固定件与所述底座固定连接。

4.根据权利要求1所述的用于曝光的掩模台，其特征在于：所述第二定位件为机械夹具。

5.根据权利要求1所述的用于曝光的掩模台，其特征在于：在所述Y方向上设置有3～8对第二定位件。

6.根据权利要求5所述的用于曝光的掩模台，其特征在于：每一对所述第二定位件单独调节施加在光掩模Y方向上的压力。

7.根据权利要求6所述的用于曝光的掩模台，其特征在于：每一对第二定位件施加在光掩模Y方向上的压力为F，0＜F≤5000帕斯卡。

8.根据权利要求7所述的用于曝光的掩模台，其特征在于：靠近所述光掩模中心的第二定位件所施加的压力大于靠近光掩模两侧的第二定位件所述施加的压力。

9.根据权利要求1所述的用于曝光的掩模台，其特征在于：所述光掩模下表面的图案区域覆盖有用于保护光膜图案的薄膜。