[实用新型]一种晶片研磨抛光用的组合载样盘有效
申请号: | 201420234606.7 | 申请日: | 2014-05-09 |
公开(公告)号: | CN203817964U | 公开(公告)日: | 2014-09-10 |
发明(设计)人: | 刘冰;王旭平;张园园;吕宪顺;杨玉国 | 申请(专利权)人: | 山东省科学院新材料研究所 |
主分类号: | B24B37/30 | 分类号: | B24B37/30 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 250014 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 晶片 研磨 抛光 组合 载样盘 | ||
1.一种晶片研磨抛光用的组合载样盘,包括套筒(1)、粘样盘(2)和配重块(3),其特征在于:所述套筒(1)整体呈扁圆柱状,该套筒内设置有多个沿轴向贯通的圆柱形载样孔(11);所述粘样盘(2)为圆柱状,它与所述载样孔(11)形成公差极小的间隙配合,所述粘样盘(2)可在所述载样孔(11)中转动和沿轴向自由滑动;所述粘样盘(2)可通过其顶部螺纹孔(21)及所述配重块底部的螺杆(31)紧固在一起。
2.根据权利要求1所述的晶片研磨抛光用的组合载样盘,其特征在于所述套筒(1)中的载样孔(11)以套筒(1)的轴心为中心呈环形阵列分布,这些圆柱形载样孔(11)口径相同。
3.根据权利要求1所述的晶片研磨抛光用的组合载样盘,其特征在于所述套筒(1)中心有一圆柱形注料孔(12),它与套筒(1)整体同轴心。
4.根据权利要求1或2所述的晶片研磨抛光用的组合载样盘,其特征在于所述套筒(1)底部设计有沿载样孔(11)切向的排污槽(13),该排污槽(13)为半圆形凹槽。
5.根据权利要求1或2所述的晶片研磨抛光用的组合载样盘,其特征在于所述套筒(1)底部的载样孔(11)之间设计有连通槽(14),该连通槽(14)为半圆形凹槽。
6.根据权利要求1所述的晶片研磨抛光用的组合载样盘,其特征在于所述粘样盘(2)的柱面上有四个同轴心的凸起弧形面(22)。
7.根据权利要求1或6所述的晶片研磨抛光用的组合载样盘,其特征在于所述粘样盘(2)顶部有比其本体直径略宽的挡圈(23)。
8.根据权利要求1所述的晶片研磨抛光用的组合载样盘,其特征在于所述配重块(3)可通过顶部的螺纹孔(32)叠加多个配重块。
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