[实用新型]一种用于制备抗PID薄膜的装置

权利要求书

1.一种用于制备抗PID薄膜的装置，其特征在于：包括臭氧发生器和箱体，箱体内具有密闭的容置空间；所述箱体侧面设有门；

所述臭氧发生器具有出气口、进气口和注气口；

所述臭氧发生器的出气口通过进气管与容置空间连通，所述臭氧发生器的进气口通过排气管与容置空间连通；臭氧发生器的注气口处设有注气管；

所述容置空间内设有第一均流板、载片板和第二均流板，所述第一均流板和第二均流板上开设有均流孔；所述载片板上开设有气孔；

还设有置换气体进气管，置换气体进气管与所述容置空间连通。

2.根据权利要求1所述的用于制备抗PID薄膜的装置，其特征在于：所述臭氧发生器为紫外线臭氧发生器或电弧臭氧发生器。

3.根据权利要求1所述的用于制备抗PID薄膜的装置，其特征在于：还包括加热器。

4.根据权利要求1所述的用于制备抗PID薄膜的装置，其特征在于：所述第一均流板和第二均流板水平布置，第一均流板设于第二均流板上方，第一均流板距离容置空间顶部的距离为3~15厘米，第二均流板距离容置空间底部的距离为3~15厘米。

5.根据权利要求1所述的用于制备抗PID薄膜的装置，其特征在于：所述载片板具有1~5排，每排载片板均水平设置，每排载片板的上方空间为18~40厘米，最下方载片板距离第二均流板的距离为3~15厘米。

6.根据权利要求1所述的用于制备抗PID薄膜的装置，其特征在于：所述进气管的一端与臭氧发生器的出气口连通，进气管的另一端分出至少2根进气分流管，各进气分流管管径相同，长度相同，各进气分流管与容置空间上连通或下连通，进气分流管同容置空间连通密度为4~100根/平方米。

7.根据权利要求1所述的用于制备抗PID薄膜的装置，其特征在于：所述排气管的一端与臭氧发生器的进气口连通，排气管的另一端分出至少2根排气分流管，各排气分流管管径相同，长度相同，各排气分流管与容置空间下连通或上连通，进气分流管同容置空间连通密度为4~100根/平方米。

8.根据权利要求1所述的用于制备抗PID薄膜的装置，其特征在于：所述排气管的输出端分出2路；其中1路与臭氧发生器的进气口连接，另1路与外界连通。

9.根据权利要求1所述的用于制备抗PID薄膜的装置，其特征在于：所述置换气体进气管的出气口设于进气管的管路上。

10.根据权利要求1所述的用于制备抗PID薄膜的装置，其特征在于：所述箱体的两侧各设有一扇门。