[实用新型]硅片化镀处理用摆动装置

说明书

技术领域

本实用新型设计硅片化镀处理装置领域，具体涉及一种硅片化镀处理用摆动装置。

背景技术

扩散硅片在化学镀镍、化学镀金中一般用手摆动装有硅片的花篮进行处理，使待镀硅片与化镀溶液充分接触发生反应。这种手动摆动处理存在缺点：摆速不均匀，造成加工硅片表面镀镍、镀金不太均匀，在生产过程中需要人一直维持，人工效率低下，且化学溶液对人体有危害。

发明内容

为了解决上述问题，本实用新型提出了一种硅片化镀处理用摆动装置,设计简单，使用方便，无需人工，工作效率高，且安全可靠，硅片表面镀镍、镀金均匀。

为了达到上述发明目的，本实用新型提出以下技术方案：

    硅片化镀处理用摆动装置，它包括机架、转轮、旋转电机、机械手、机械手臂、硅片花篮和化镀处理槽，机架上端装有旋转电机，转轮连接在旋转电机的转轴上，转轮圆心一侧连接机械手臂上端，机械手臂下端设计装有机械手，机械手抓在硅片花篮的提手上，硅片花篮位于化镀处理槽内，机架下端是化镀处理槽。

所述的机械手包括压手块和拉手块，压手块是“L”状，拉手块是挂钩形状，压手块装在拉手快上端，压手块通过螺栓和螺母固定在机械臂上。

所述的转轮与机械手臂是偏心连接，转轮上设计有偏心转轴，机械手臂上端安装在偏心转轴上。

本实用新型的优点是设计简单，使用方便，无需人工，工作效率高，且安全可靠，硅片表面镀镍、镀金均匀；机械手的结构设计能够把硅片花篮有效地抓紧，防止工作过程中花篮脱落；转轮与机械臂偏心连接设计，使硅片花篮均匀摆动。

附图说明

图1是本实用新型的示意图。

图2是本实用新型的前视示意图。

具体实施方式

为了对本实用新型进一步说明，下面结合说明书附图来介绍：

    参照附图1和图2，硅片化镀处理用摆动装置，它包括机架1、转轮2、旋转电机3、机械手4、机械手臂5、硅片花篮6和化镀处理槽7，机架1上端装有旋转电机3，转轮2连接在旋转电机3的转轴上，转轮2圆心一侧连接机械手臂5上端，机械手臂5下端设计装有机械手4，机械手4抓在硅片花篮6的提手61上，硅片花篮6位于化镀处理槽7内，机架1下端是化镀处理槽7。

参照图2，所述的机械手4包括压手块41和拉手块42，压手块41是“L”状，拉手块42是挂钩形状，压手块41装在拉手快上端，压手块41通过螺栓和螺母固定在机械臂上。

所述的转轮2与机械手臂是偏心连接，转轮2上设计有偏心转轴21，机械手臂5上端安装在偏心转轴21上。

本实用新型使用时，硅片花篮内装满待处理的硅片，然后把花篮的提手挂在机械手的拉手块上，提手上端在用压手块压住，防止花篮脱落，压手块再通过螺栓和螺母锁紧，启动旋转电机，带动转轮旋转，机械臂在转轮上的偏心转轴的带动下，做出摆臂动作，从而带动机械手和硅片花篮同步摆动，匀速的对硅片进行处理。这种无需人员不停的手动摆动，人员接触化学溶液机会就少就更安全，而且旋转电机可采用变速装置对其摆动速度进行控制调节，旋转摆动时间可以通过时间继电器控制其摆动处理时间。