[实用新型]旋钮帽盖及具有该旋钮帽盖的电子装置

权利要求书

1.一种旋钮帽盖，其特征在于，所述旋钮帽盖包括： 

一帽盖本体，所述帽盖本体包含一操作端及一卡合端；以及 

一集尘结构，所述集尘结构设置于所述卡合端，所述集尘结构包括一由所述卡合端的周缘向外延伸形成的底盘、一由所述底盘的周缘向所述操作端方向延伸形成的挡壁及一形成于所述挡壁与所述帽盖本体的外表面间的集尘沟。 

2.如权利要求1所述的旋钮帽盖，其特征在于，所述帽盖本体穿设于一壳体的一穿孔时，所述帽盖本体的外表面与所述穿孔间形成有一间隙，所述集尘沟对应位于所述间隙下方。 

3.如权利要求2所述的旋钮帽盖，其特征在于，所述集尘沟的宽度大于或等于所述间隙宽度。 

4.如权利要求3所述的旋钮帽盖，其特征在于，所述挡壁位于所述壳体的下方，且当所述帽盖本体受拉力而向上移动时，所述挡壁抵顶于所述壳体的内侧。 

5.如权利要求1所述的旋钮帽盖，其特征在于，所述集尘结构还包括一缓降壁，所述缓降壁由所述帽盖本体的所述卡合端，向外向下延伸形成，而所述底盘是由所述缓降壁的周缘向外延伸形成。 

6.如权利要求5所述的旋钮帽盖，其特征在于，所述缓降壁包含一由所述卡合端向下向外延伸形成的倾斜部，及一由所述倾斜部向下延伸形成的垂直部。 

7.如权利要求6所述的旋钮帽盖，其特征在于，所述帽盖本体穿设于一壳体的一穿孔时，所述帽盖本体的外表面与所述穿孔间形成有一间隙，所述缓降壁的所述倾斜部对应位于所述间隙下方，以导引由所述间隙进入的细小物体进入所述集尘沟。 

8.一种电子装置，其特征在于，所述电子装置包含： 

一壳体，所述壳体具有一穿孔； 

一旋钮帽盖，所述旋钮帽盖包含： 

一帽盖本体，所述帽盖本体包含一操作端及一卡合端；以及 

一集尘结构，所述集尘结构设置于所述卡合端，所述集尘结构包括一由所述卡合端的周缘向外延伸形成的底盘、一由所述底盘的周缘向所述操作端方向延伸形成的挡壁及一形成于所述挡壁与所述帽盖本体的外表面间的集尘沟；以及 

一电路组件，所述电路组件具有一设置有一旋钮单元的电路基板； 

其中，所述旋钮帽盖套设于所述旋钮单元上，且所述旋钮帽盖穿过所述穿孔，而所述旋钮帽盖的外表面与所述穿孔间形成有一间隙，所述集尘沟对应位于所述间隙下方。 

9.如权利要求8所述的电子装置，其特征在于，所述壳体邻近于所述穿孔的周缘处，具有一环状遮蔽结构，所述集尘结构对应位于所述环状遮蔽结构下方，当所述帽盖本体受拉力而向上移动时，所述挡壁抵顶于所述环状遮蔽结构。 

10.如权利要求9所述的电子装置，其特征在于，所述集尘结构还包括一缓降壁，所述缓降壁由所述帽盖本体的所述卡合端，向外向下延伸形成，而所述底盘是由所述缓降壁的周缘向外延伸形成。 

11.如权利要求10所述的电子装置，其特征在于，所述缓降壁包含一由所述卡合端向下向外延伸形成的倾斜部，及一由所述倾斜部向下延伸形成的垂直部，以导引由所述间隙进入的细小物体进入所述集尘沟。 

12.如权利要求11所述的电子装置，其特征在于，所述环状遮蔽结构对应于所述挡壁具有一第一承抵部，而对应于所述倾斜部具有一第二承抵部，当所述帽盖本体受拉力而向上移动时，所述挡壁对应抵顶于所述第一承抵部，而所述倾斜部对应抵顶于所述第二承抵部。 

13.如权利要求10所述的电子装置，其特征在于，所述环状遮蔽结构由所述穿孔的侧壁依序沿垂直方向及水平方向延伸形成，且所述环状遮蔽结构的内侧表面与所述集尘结构的所述缓降壁间，形成有一弯曲通道。